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東京エレクトロン株式会社
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■ 2015年 出願公開件数ランキング 第56位 677件
（
2014年：第58位 686件）
■ 2015年 特許取得件数ランキング 第51位 433件
（
2014年：第48位 694件）
（ランキング更新日：2025年11月28日）筆頭出願人である出願のみカウントしています
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東京エレクトロン株式会社の商標一覧| 公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特許 5683539 | 液処理装置及び液処理方法並びに液処理用記憶媒体 | 2015年 3月11日 | |
| 特許 5683822 | プラズマ処理装置及びプラズマ処理装置用の電極 | 2015年 3月11日 | |
| 特許 5678351 | 化学プロセスシステム | 2015年 3月 4日 | |
| 特許 5678858 | 基板処理装置 | 2015年 3月 4日 | |
| 特許 5679581 | 成膜方法 | 2015年 3月 4日 | |
| 特許 5681052 | 基板処理装置、基板処理方法及びその基板処理方法を実行させるためのプログラムを記録した記憶媒体 | 2015年 3月 4日 | |
| 特許 5674280 | プラズマ処理装置 | 2015年 2月25日 | |
| 特許 5674328 | 電極及びプラズマ処理装置 | 2015年 2月25日 | |
| 特許 5674375 | プラズマ処理方法及びプラズマ処理装置 | 2015年 2月25日 | |
| 特許 5674669 | ルテニウム金属キャップ層を形成する方法 | 2015年 2月25日 | |
| 特許 5674731 | 検査装置、接合システム、検査方法、プログラム及びコンピュータ記憶媒体 | 2015年 2月25日 | |
| 特許 5674871 | 誘導結合プラズマ処理装置 | 2015年 2月25日 | |
| 特許 5675138 | プラズマ処理装置 | 2015年 2月25日 | |
| 特許 5675239 | ウエハ検査用インターフェース及びウエハ検査装置 | 2015年 2月25日 | |
| 特許 5675331 | トレンチの埋め込み方法 | 2015年 2月25日 |
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5683539 5683822 5678351 5678858 5679581 5681052 5674280 5674328 5674375 5674669 5674731 5674871 5675138 5675239 5675331
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