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東京エレクトロン株式会社
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■ 2016年 出願公開件数ランキング 第61位 616件
（
2015年：第56位 677件）
■ 2016年 特許取得件数ランキング 第49位 561件
（
2015年：第51位 433件）
（ランキング更新日：2025年10月16日）筆頭出願人である出願のみカウントしています
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東京エレクトロン株式会社の商標一覧| 公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特許 6042160 | 成膜方法及び成膜装置 | 2016年12月14日 | |
| 特許 6042415 | 半導体デバイスの製造方法 | 2016年12月14日 | |
| 特許 6042498 | 基板の高精度エッチング方法 | 2016年12月14日 | |
| 特許 6042760 | プローブ装置 | 2016年12月14日 | |
| 特許 6042761 | プローブ装置 | 2016年12月14日 | |
| 特許 6043046 | エッチングガスの供給方法及びエッチング装置 | 2016年12月14日 | |
| 特許 6043600 | 基板処理装置及び基板処理方法 | 2016年12月14日 | |
| 特許 6044371 | 液処理方法、液処理装置及び記憶媒体 | 2016年12月14日 | |
| 特許 6044373 | 基板搬送装置 | 2016年12月14日 | |
| 特許 6044428 | 基板処理方法、基板処理装置及び記憶媒体 | 2016年12月14日 | |
| 特許 6045482 | 表面処理装置、表面処理方法、プログラム及びコンピュータ記憶媒体 | 2016年12月14日 | |
| 特許 6045485 | 基板処理装置 | 2016年12月14日 | |
| 特許 6045504 | 側壁像転写ピッチダブリング及びインライン限界寸法スリミング | 2016年12月14日 | |
| 特許 6045646 | プラズマエッチング方法 | 2016年12月14日 | |
| 特許 6045746 | 誘導自己組織化ケモエピタキシ用途において有機フィルムを除去するためのトラック処理 | 2016年12月14日 |
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6042160 6042415 6042498 6042760 6042761 6043046 6043600 6044371 6044373 6044428 6045482 6045485 6045504 6045646 6045746
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