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東京エレクトロン株式会社
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■ 2016年 出願公開件数ランキング 第61位 616件
（
2015年：第56位 677件）
■ 2016年 特許取得件数ランキング 第49位 561件
（
2015年：第51位 433件）
（ランキング更新日：2024年11月22日）筆頭出願人である出願のみカウントしています
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東京エレクトロン株式会社の商標一覧| 公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特許 6030859 | 基板処理装置 | 2016年11月24日 | |
| 特許 6030886 | プラズマエッチング方法及びプラズマエッチング装置 | 2016年11月24日 | |
| 特許 6030994 | プラズマエッチング装置及びプラズマエッチング方法 | 2016年11月24日 | |
| 特許 6031238 | ウエハ検査用インターフェース及びウエハ検査装置 | 2016年11月24日 | |
| 特許 6031292 | プローブカードへの基板当接方法 | 2016年11月24日 | |
| 特許 6032189 | 塗布膜形成装置、塗布膜形成方法、記憶媒体 | 2016年11月24日 | |
| 特許 6032190 | 処理液供給装置、処理液供給方法及び記憶媒体 | 2016年11月24日 | |
| 特許 6024433 | 基板処理装置、基板処理システム及び搬送容器の異常検出方法 | 2016年11月16日 | |
| 特許 6024484 | 成膜方法及び成膜装置 | 2016年11月16日 | |
| 特許 6025735 | マイクロ波プラズマを用いる誘電膜堆積方法 | 2016年11月16日 | |
| 特許 6025759 | 剥離システム | 2016年11月16日 | |
| 特許 6026163 | 洗浄装置、洗浄方法および記憶媒体 | 2016年11月16日 | |
| 特許 6026241 | 基板処理装置、基板処理方法及び記憶媒体 | 2016年11月16日 | |
| 特許 6026351 | 成膜装置のクリーニング方法および成膜装置 | 2016年11月16日 | |
| 特許 6026362 | 基板処理システム、基板処理システムの制御方法、及び記憶媒体 | 2016年11月16日 |
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6030859 6030886 6030994 6031238 6031292 6032189 6032190 6024433 6024484 6025735 6025759 6026163 6026241 6026351 6026362
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