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東京エレクトロン株式会社
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■ 2016年 出願公開件数ランキング 第61位 616件
（
2015年：第56位 677件）
■ 2016年 特許取得件数ランキング 第49位 561件
（
2015年：第51位 433件）
（ランキング更新日：2025年12月17日）筆頭出願人である出願のみカウントしています
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東京エレクトロン株式会社の商標一覧| 公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特許 6026620 | 載置台、プラズマ処理装置及び載置台の製造方法 | 2016年11月16日 | |
| 特許 6026848 | パターン形成方法及び凸版 | 2016年11月16日 | |
| 特許 6027374 | プラズマ処理装置及びフィルタユニット | 2016年11月16日 | |
| 特許 6027465 | 基板処理装置及び基板処理方法 | 2016年11月16日 | |
| 特許 6027490 | ガスを供給する方法、及びプラズマ処理装置 | 2016年11月16日 | |
| 特許 6027492 | エッチング方法及びエッチング装置 | 2016年11月16日 | |
| 特許 6027523 | 基板処理装置及び基板処理方法並びに基板処理プログラムを記録した記録媒体 | 2016年11月16日 | |
| 特許 6027551 | プラズマエッチング方法及びプラズマエッチング装置 | 2016年11月16日 | |
| 特許 6027640 | 基板処理システム | 2016年11月16日 | |
| 特許 6022430 | 基板処理装置 | 2016年11月 9日 | |
| 特許 6022431 | 基板液処理装置及び基板液処理方法 | 2016年11月 9日 | |
| 特許 6022469 | 基板のダブルパターニング方法 | 2016年11月 9日 | |
| 特許 6022490 | 基板処理方法、基板処理システムおよび記憶媒体 | 2016年11月 9日 | |
| 特許 6022908 | 処理装置及びバルブ動作確認方法 | 2016年11月 9日 | |
| 特許 6023010 | 基板処理方法、プログラム、コンピュータ記憶媒体及び基板処理システム | 2016年11月 9日 |
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6026620 6026848 6027374 6027465 6027490 6027492 6027523 6027551 6027640 6022430 6022431 6022469 6022490 6022908 6023010
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