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東京エレクトロン株式会社
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■ 2016年 出願公開件数ランキング 第61位 616件
（
2015年：第56位 677件）
■ 2016年 特許取得件数ランキング 第49位 561件
（
2015年：第51位 433件）
（ランキング更新日：2025年12月5日）筆頭出願人である出願のみカウントしています
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東京エレクトロン株式会社の商標一覧| 公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特許 6033048 | 液処理装置 | 2016年11月30日 | |
| 特許 6033453 | 多変量解析を用いたプラズマエンドポイント検出 | 2016年11月30日 | |
| 特許 6033595 | 基板処理装置及び基板処理装置における距離測定方法 | 2016年11月30日 | |
| 特許 6033785 | エッチング方法及び装置 | 2016年11月30日 | |
| 特許 6034156 | プラズマ処理装置及びプラズマ処理方法 | 2016年11月30日 | |
| 特許 6034655 | プラズマ処理装置 | 2016年11月30日 | |
| 特許 6035117 | プラズマエッチング方法及びプラズマエッチング装置 | 2016年11月30日 | |
| 特許 6035279 | 膜厚測定装置、膜厚測定方法、プログラム及びコンピュータ記憶媒体 | 2016年11月30日 | |
| 特許 6036742 | 集塵用治具、基板処理装置及びパーティクル捕集方法。 | 2016年11月30日 | |
| 特許 6029452 | 基板処理装置 | 2016年11月24日 | |
| 特許 6029522 | パターンを形成する方法 | 2016年11月24日 | |
| 特許 6029623 | プラズマ処理装置およびプラズマ処理方法、ならびにコンピュータ読み取り可能な記憶媒体 | 2016年11月24日 | |
| 特許 6030099 | 残渣層除去方法及び残渣層除去装置 | 2016年11月24日 | |
| 特許 6030439 | マンガン含有膜の形成方法、処理システム、および電子デバイスの製造方法 | 2016年11月24日 | |
| 特許 6030455 | シリコン酸化物膜の成膜方法 | 2016年11月24日 |
572 件中 61-75 件を表示
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6033048 6033453 6033595 6033785 6034156 6034655 6035117 6035279 6036742 6029452 6029522 6029623 6030099 6030439 6030455
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