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東京エレクトロン株式会社
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■ 2019年 出願公開件数ランキング 第58位 660件
（
2018年：第67位 588件）
■ 2019年 特許取得件数ランキング 第58位 415件
（
2018年：第50位 503件）
（ランキング更新日：2025年2月17日）筆頭出願人である出願のみカウントしています
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東京エレクトロン株式会社の商標一覧| 公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特許 6537433 | 静電容量測定用のセンサチップ及び同センサチップを備えた測定器 | 2019年 7月 3日 | |
| 特許 6537456 | 熱処理装置、熱処理方法及びコンピュータ読み取り可能な記録媒体 | 2019年 7月 3日 | |
| 特許 6537473 | 被処理体を処理する方法 | 2019年 7月 3日 | |
| 特許 6537992 | 基板処理装置、基板処理装置の制御方法、及び基板処理システム | 2019年 7月 3日 | |
| 特許 6538233 | 基板液処理装置 | 2019年 7月 3日 | |
| 特許 6538239 | 基板処理方法、基板処理装置及び記録媒体 | 2019年 7月 3日 | |
| 特許 6539482 | 遮断開放器 | 2019年 7月 3日 | |
| 特許 6531422 | プラズマ処理装置、基板処理システム、薄膜トランジスターの製造方法及び記憶媒体 | 2019年 6月19日 | |
| 特許 6531487 | 成膜装置、成膜方法及び記憶媒体 | 2019年 6月19日 | |
| 特許 6531831 | 液処理装置、液処理方法及び記憶媒体 | 2019年 6月19日 | |
| 特許 6532066 | 原子層をエッチングする方法 | 2019年 6月19日 | |
| 特許 6532360 | 半導体装置の製造方法 | 2019年 6月19日 | |
| 特許 6532778 | 液滴吐出装置、液滴吐出方法、プログラム及びコンピュータ記憶媒体 | 2019年 6月19日 | |
| 特許 6532834 | 基板処理装置及び基板処理方法並びに記録媒体 | 2019年 6月19日 | |
| 特許 6532835 | 基板処理装置及び基板処理方法並びに記録媒体 | 2019年 6月19日 |
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6537433 6537456 6537473 6537992 6538233 6538239 6539482 6531422 6531487 6531831 6532066 6532360 6532778 6532834 6532835
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2月18日(火) -
2月19日(水) - 東京 港区
2月19日(水) -
2月19日(水) -
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2月20日(木) - 東京 港区
2月20日(木) -
2月20日(木) -
2月20日(木) - 東京 千代田区
2月21日(金) - 東京 千代田区
2月21日(金) - 東京 大田
パテントマップを用いた知財戦略の策定方法 －自社が勝つパテントマップ作成と それを活用した開発戦略・知財戦略の実践方法－ ＜東京会場受講（対面）／Zoomオンライン受講 選択可＞ ＜見逃し視聴選択可＞
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2月17日(月) - 大阪 大阪市
（オンライン参加可）体験談から学ぶ知的財産権 その時どうする？～海外で商標権がバッティング？オープンファクトリーの知財リスク？～
2月25日(火) -
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2月26日(水) -
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2月26日(水) - 東京 港区
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2月27日(木) - 東京 港区
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2月27日(木) - 東京 千代田区
2月25日(火) -
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