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東京エレクトロン株式会社
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■ 2019年 出願公開件数ランキング 第58位 660件
（
2018年：第67位 588件）
■ 2019年 特許取得件数ランキング 第58位 415件
（
2018年：第50位 503件）
（ランキング更新日：2025年9月1日）筆頭出願人である出願のみカウントしています
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東京エレクトロン株式会社の商標一覧| 公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特許 6528286 | 基板裏側のテクスチャリング | 2019年 6月12日 | |
| 特許 6528546 | 現像方法、現像装置及び記憶媒体 | 2019年 6月12日 | |
| 特許 6529357 | エッチング方法 | 2019年 6月12日 | |
| 特許 6529371 | エッチング方法及びエッチング装置 | 2019年 6月12日 | |
| 特許 6529512 | ステージ及び基板処理装置 | 2019年 6月12日 | |
| 特許 6523714 | プラズマ処理装置 | 2019年 6月 5日 | |
| 特許 6523838 | プローブカード搬送装置、プローブカード搬送方法及びプローブ装置 | 2019年 6月 5日 | |
| 特許 6524185 | 基板処理システム | 2019年 6月 5日 | |
| 特許 6524388 | 光増感化学増幅レジストで酸ショットノイズとして複製されるＥＵＶショットノイズの軽減 | 2019年 6月 5日 | |
| 特許 6524753 | プラズマ処理装置、プラズマ処理方法及び記憶媒体 | 2019年 6月 5日 | |
| 特許 6525751 | 温度制御方法及びプラズマ処理装置 | 2019年 6月 5日 | |
| 特許 6526543 | めっき処理装置及びめっき処理方法 | 2019年 6月 5日 | |
| 特許 6527030 | めっき処理方法及びめっき処理部品並びにめっき処理システム | 2019年 6月 5日 | |
| 特許 6521126 | 現像装置 | 2019年 5月29日 | |
| 特許 6521799 | ハロゲン除去方法および半導体装置の製造方法 | 2019年 5月29日 |
418 件中 226-240 件を表示
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6528286 6528546 6529357 6529371 6529512 6523714 6523838 6524185 6524388 6524753 6525751 6526543 6527030 6521126 6521799
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