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東京エレクトロン株式会社
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■ 2019年 出願公開件数ランキング 第58位 660件
（
2018年：第67位 588件）
■ 2019年 特許取得件数ランキング 第58位 415件
（
2018年：第50位 503件）
（ランキング更新日：2024年11月29日）筆頭出願人である出願のみカウントしています
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東京エレクトロン株式会社の商標一覧| 公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特許 6511309 | 基板加熱装置及び基板加熱方法 | 2019年 5月15日 | |
| 特許 6512063 | 成膜装置 | 2019年 5月15日 | |
| 特許 6512089 | 基板処理装置及び基板処理装置の調整方法 | 2019年 5月15日 | |
| 特許 6512119 | 基板処理方法、基板処理システム及び基板処理装置 | 2019年 5月15日 | |
| 特許 6512860 | 熱処理システム、熱処理方法、及び、プログラム | 2019年 5月15日 | |
| 特許 6512954 | フォーカスリングを検査するためのシステム、及びフォーカスリングを検査する方法 | 2019年 5月15日 | |
| 特許 6512959 | ガス供給系、ガス供給制御方法、及びガス置換方法 | 2019年 5月15日 | |
| 特許 6512962 | プラズマ処理装置 | 2019年 5月15日 | |
| 特許 6512974 | 基板処理装置 | 2019年 5月15日 | |
| 特許 6512975 | エッチング終点検出方法及びプラズマ処理装置の制御装置 | 2019年 5月15日 | |
| 特許 6512986 | 接合装置及び接合システム | 2019年 5月15日 | |
| 特許 6512994 | 化学増幅型レジスト材料 | 2019年 5月15日 | |
| 特許 6513048 | 液処理装置 | 2019年 5月15日 | |
| 特許 6513492 | 基板処理方法、基板処理装置及び記憶媒体 | 2019年 5月15日 | |
| 特許 6513508 | 搬送装置、その制御方法及び基板処理システム | 2019年 5月15日 |
418 件中 256-270 件を表示
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6511309 6512063 6512089 6512119 6512860 6512954 6512959 6512962 6512974 6512975 6512986 6512994 6513048 6513492 6513508
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