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東京エレクトロン株式会社
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■ 2019年 出願公開件数ランキング 第58位 660件
（
2018年：第67位 588件）
■ 2019年 特許取得件数ランキング 第58位 415件
（
2018年：第50位 503件）
（ランキング更新日：2024年11月26日）筆頭出願人である出願のみカウントしています
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東京エレクトロン株式会社の商標一覧| 公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特許 6541355 | 冷却構造及び平行平板エッチング装置 | 2019年 7月10日 | |
| 特許 6541374 | 基板処理装置 | 2019年 7月10日 | |
| 特許 6541438 | 金属膜のストレス低減方法および金属膜の成膜方法 | 2019年 7月10日 | |
| 特許 6541439 | エッチング方法 | 2019年 7月10日 | |
| 特許 6541492 | 液処理方法および液処理装置 | 2019年 7月10日 | |
| 特許 6541540 | プラズマ処理装置のインピーダンス整合のための方法 | 2019年 7月10日 | |
| 特許 6541565 | 載置台及びプラズマ処理装置 | 2019年 7月10日 | |
| 特許 6541584 | ガス供給系を検査する方法 | 2019年 7月10日 | |
| 特許 6541591 | 凹部内の結晶成長方法および処理装置 | 2019年 7月10日 | |
| 特許 6541596 | プラズマ処理方法 | 2019年 7月10日 | |
| 特許 6541599 | 制御装置、基板処理システム、基板処理方法及びプログラム | 2019年 7月10日 | |
| 特許 6541605 | 基板処理装置、及び基板処理装置の撮像方法 | 2019年 7月10日 | |
| 特許 6541618 | 被処理体を処理する方法 | 2019年 7月10日 | |
| 特許 6541623 | プラズマ処理装置、及び波形補正方法 | 2019年 7月10日 | |
| 特許 6537329 | 温度制御装置、温度制御方法およびプログラム | 2019年 7月 3日 |
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6541355 6541374 6541438 6541439 6541492 6541540 6541565 6541584 6541591 6541596 6541599 6541605 6541618 6541623 6537329
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12月1日(日) -
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新製品開発の「タネ」がみつかる！株式会社リコーによるシーズ発表会 ～リコーの技術(シーズ)やアイデアを使って新製品をつくりませんか？～
12月2日(月) -
12月4日(水) - 東京 千代田区
12月4日(水) - 東京 港区
12月4日(水) -
12月4日(水) - 大阪 大阪市
12月4日(水) -
12月4日(水) -
12月5日(木) - 東京 港区
12月5日(木) -
12月5日(木) -
12月5日(木) - 大阪 大阪市
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12月6日(金) - 愛知 豊橋市花田町
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