特許ランキング - 出願人詳細情報 -

東京エレクトロン株式会社

※ ログインすれば出願人(東京エレクトロン株式会社)をリストに登録できます。ログインについて

　■　2020年出願公開件数ランキング　　　第43位　773件（2019年：第58位　660件）

　■　2020年特許取得件数ランキング　　　第54位　436件（2019年：第58位　415件）

（ランキング更新日：2025年2月21日）筆頭出願人である出願のみカウントしています

2011年 2012年 2013年 2014年 2015年 2016年 2017年 2018年 2019年 2021年 2022年 2023年 2024年 2025年

東京エレクトロン株式会社の商標一覧

公報番号	発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます)	公報発行日
特開 2020-119982	プラズマ処理装置及びプラズマ処理方法	2020年 8月 6日
特開 2020-119996	基板処理装置、基板処理システム及び基板処理方法。	2020年 8月 6日
特開 2020-119997	載置台、基板処理装置及び保護方法	2020年 8月 6日
特開 2020-120045	熱媒体の制御方法および熱媒体制御装置	2020年 8月 6日
特開 2020-120081	基板処理装置	2020年 8月 6日
特開 2020-120099	基板処理装置及び基板処理方法	2020年 8月 6日
特開 2020-120137	基板処理装置	2020年 8月 6日
特開 2020-120138	接合装置、および接合方法	2020年 8月 6日
再表 2019-146427	接合システム、および接合方法	2020年 7月30日
特開 2020-115419	上部電極構造、プラズマ処理装置、及び上部電極構造を組み立てる方法	2020年 7月30日
特開 2020-115498	エッチング方法およびエッチング装置	2020年 7月30日
特開 2020-115499	プラズマ処理装置、及びリング部材の位置ずれ測定方法	2020年 7月30日
特開 2020-115513	基板処理方法及び基板処理装置	2020年 7月30日
特開 2020-115519	載置台及び基板処理装置	2020年 7月30日
特開 2020-115538	エッチング処理方法およびエッチング処理装置	2020年 7月30日

777 件中 331-345 件を表示

... 23

※ をクリックすると公報番号が選択状態になります。クリップボードにコピーする際にお使いください。

このページの公報番号をまとめてクリップボードにコピー

2020-119982 2020-119996 2020-119997 2020-120045 2020-120081 2020-120099 2020-120137 2020-120138 2019-146427 2020-115419 2020-115498 2020-115499 2020-115513 2020-115519 2020-115538

※ ログインすれば出願人をリストに登録できます。東京エレクトロン株式会社の知財の動向チェックに便利です。

ログインについて

ランキング一覧に戻る

特許ランキング

2025年特許出願件数	2025年特許取得件数
2024年特許出願件数	2024年特許取得件数
2023年特許出願件数	2023年特許取得件数
2022年特許出願件数	2022年特許取得件数
2021年特許出願件数	2021年特許取得件数
2019年特許出願件数	2019年特許取得件数
2018年特許出願件数	2018年特許取得件数
2017年特許出願件数	2017年特許取得件数
2016年特許出願件数	2016年特許取得件数
2015年特許出願件数	2015年特許取得件数
2014年特許出願件数	2014年特許取得件数
2013年特許出願件数	2013年特許取得件数
2012年特許出願件数	2012年特許取得件数
2011年特許出願件数	2011年特許取得件数