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■ 2020年 出願公開件数ランキング 第43位 773件
(2019年:第58位 660件)
■ 2020年 特許取得件数ランキング 第54位 436件
(2019年:第58位 415件)
(ランキング更新日:2025年2月21日)筆頭出願人である出願のみカウントしています
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公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
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特表 2020-523794 | 磁気トンネル接合をパターン化する方法 | 2020年 8月 6日 | |
特開 2020-116485 | 塗布膜形成方法及び塗布膜形成装置 | 2020年 8月 6日 | |
特開 2020-116691 | 加工装置及び加工方法 | 2020年 8月 6日 | |
特開 2020-116692 | 加工装置及び加工方法 | 2020年 8月 6日 | |
特開 2020-117762 | 半導体製造システムの制御方法及び半導体製造システム | 2020年 8月 6日 | |
特開 2020-118672 | 測定装置、基板処理システムおよび測定方法 | 2020年 8月 6日 | |
特開 2020-119476 | 画像認識システムおよび画像認識方法 | 2020年 8月 6日 | |
特開 2020-119834 | ヒータの温度制御方法、ヒータ及び載置台 | 2020年 8月 6日 | |
特開 2020-119918 | 膜をエッチングする方法 | 2020年 8月 6日 | |
特開 2020-119920 | 基板処理装置の洗浄方法、および基板処理装置 | 2020年 8月 6日 | |
特開 2020-119921 | 基板処理方法 | 2020年 8月 6日 | |
特開 2020-119927 | 搬送装置 | 2020年 8月 6日 | |
特開 2020-119938 | 基板処理装置及び基板処理方法 | 2020年 8月 6日 | |
特開 2020-119961 | 基板処理装置、及び基板処理方法、及び記憶媒体 | 2020年 8月 6日 | |
特開 2020-119962 | プラズマ処理装置 | 2020年 8月 6日 |
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2020-523794 2020-116485 2020-116691 2020-116692 2020-117762 2020-118672 2020-119476 2020-119834 2020-119918 2020-119920 2020-119921 2020-119927 2020-119938 2020-119961 2020-119962
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2月25日(火) -
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2月26日(水) -
2月26日(水) -
2月26日(水) - 東京 港区
2月26日(水) -
2月26日(水) - 千葉 船橋市
2月27日(木) -
2月27日(木) -
2月27日(木) - 東京 港区
2月27日(木) -
2月27日(木) - 東京 千代田区
2月25日(火) -
3月4日(火) - 東京 港区
3月4日(火) -
3月4日(火) -
3月4日(火) -
3月5日(水) -
3月5日(水) -
3月6日(木) -
3月6日(木) - 東京 品川区
3月6日(木) - 東京 港区
3月6日(木) -
3月7日(金) -
3月7日(金) - 東京 港区
3月7日(金) -
3月7日(金) -
3月4日(火) - 東京 港区
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