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東京エレクトロン株式会社

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  2020年 出願公開件数ランキング    第43位 773件 上昇2019年:第58位 660件)

  2020年 特許取得件数ランキング    第54位 436件 上昇2019年:第58位 415件)

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公報番号発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます)公報発行日備考
特開 2020-115540 静電吸着部の制御方法、及びプラズマ処理装置 2020年 7月30日
特開 2020-115553 基板処理装置、液処理方法、及び記憶媒体 2020年 7月30日
特開 2020-115593 接合装置および接合システム 2020年 7月30日
再表 2019-146424 基板処理装置 2020年 7月27日
特開 2020-111782 基板液処理装置及び基板液処理方法 2020年 7月27日
特開 2020-112755 ハードマスク及び半導体デバイスの製造方法 2020年 7月27日
特開 2020-113576 基板処理装置 2020年 7月27日
特開 2020-113577 基板処理装置、基板処理方法及び記憶媒体 2020年 7月27日
特開 2020-113589 基板処理方法および基板処理装置 2020年 7月27日
特開 2020-113590 熱板の冷却方法及び加熱処理装置 2020年 7月27日
特開 2020-113603 プラズマ処理装置およびプラズマ処理装置の載置台 2020年 7月27日
特開 2020-113618 誘導結合プラズマ処理装置 2020年 7月27日
特開 2020-113621 基板処理装置 2020年 7月27日
特開 2020-113629 処理装置 2020年 7月27日
特開 2020-113652 処理方法及びプラズマ処理装置 2020年 7月27日

777 件中 346-360 件を表示

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2020-115540 2020-115553 2020-115593 2019-146424 2020-111782 2020-112755 2020-113576 2020-113577 2020-113589 2020-113590 2020-113603 2020-113618 2020-113621 2020-113629 2020-113652

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