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■ 2020年 出願公開件数ランキング 第43位 773件
(2019年:第58位 660件)
■ 2020年 特許取得件数ランキング 第54位 436件
(2019年:第58位 415件)
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公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
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特開 2020-115540 | 静電吸着部の制御方法、及びプラズマ処理装置 | 2020年 7月30日 | |
特開 2020-115553 | 基板処理装置、液処理方法、及び記憶媒体 | 2020年 7月30日 | |
特開 2020-115593 | 接合装置および接合システム | 2020年 7月30日 | |
再表 2019-146424 | 基板処理装置 | 2020年 7月27日 | |
特開 2020-111782 | 基板液処理装置及び基板液処理方法 | 2020年 7月27日 | |
特開 2020-112755 | ハードマスク及び半導体デバイスの製造方法 | 2020年 7月27日 | |
特開 2020-113576 | 基板処理装置 | 2020年 7月27日 | |
特開 2020-113577 | 基板処理装置、基板処理方法及び記憶媒体 | 2020年 7月27日 | |
特開 2020-113589 | 基板処理方法および基板処理装置 | 2020年 7月27日 | |
特開 2020-113590 | 熱板の冷却方法及び加熱処理装置 | 2020年 7月27日 | |
特開 2020-113603 | プラズマ処理装置およびプラズマ処理装置の載置台 | 2020年 7月27日 | |
特開 2020-113618 | 誘導結合プラズマ処理装置 | 2020年 7月27日 | |
特開 2020-113621 | 基板処理装置 | 2020年 7月27日 | |
特開 2020-113629 | 処理装置 | 2020年 7月27日 | |
特開 2020-113652 | 処理方法及びプラズマ処理装置 | 2020年 7月27日 |
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2020-115540 2020-115553 2020-115593 2019-146424 2020-111782 2020-112755 2020-113576 2020-113577 2020-113589 2020-113590 2020-113603 2020-113618 2020-113621 2020-113629 2020-113652
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2月27日(木) -
2月27日(木) - 東京 港区
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2月25日(火) -
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3月4日(火) -
3月4日(火) -
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3月5日(水) -
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3月6日(木) -
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3月6日(木) - 東京 港区
3月6日(木) -
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3月7日(金) - 東京 港区
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