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東京エレクトロン株式会社

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東京エレクトロン株式会社の商標一覧

公報番号	発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます)	公報発行日
特開 2021-132148	ステージ、プラズマ処理装置及びプラズマ処理方法	2021年 9月 9日
特開 2021-132158	基板液処理装置及び液体吐出評価方法	2021年 9月 9日
特開 2021-132159	特徴量測定方法及び特徴量測定装置	2021年 9月 9日
特開 2021-132162	ダミーウエハ	2021年 9月 9日
特開 2021-132183	情報処理装置、情報処理方法及びコンピュータ読み取り可能な記録媒体	2021年 9月 9日
特開 2021-132189	エッチング方法及びエッチング装置	2021年 9月 9日
特開 2021-132190	基板処理装置および載置台	2021年 9月 9日
再表 2020-40178	基板処理方法及び基板処理システム	2021年 9月 2日
再表 2020-67246	基板処理装置および基板処理方法	2021年 9月 2日
再表 2020-75599	窒化物半導体膜の形成方法	2021年 9月 2日
再表 2020-84909	基板処理装置及び基板処理方法	2021年 9月 2日
特表 2021-523515	プラズマを収容したラジカル源	2021年 9月 2日
特開 2021-127508	成膜方法	2021年 9月 2日
特開 2021-128006	加熱源の寿命推定システム、寿命推定方法、および検査装置	2021年 9月 2日
特開 2021-128127	プローブカード保持装置及び検査装置	2021年 9月 2日

882 件中 316-330 件を表示

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2021-132148 2021-132158 2021-132159 2021-132162 2021-132183 2021-132189 2021-132190 2020-40178 2020-67246 2020-75599 2020-84909 2021-523515 2021-127508 2021-128006 2021-128127

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