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■ 2021年 出願公開件数ランキング 第33位 878件
(2020年:第43位 773件)
■ 2021年 特許取得件数ランキング 第45位 515件
(2020年:第54位 436件)
(ランキング更新日:2025年2月14日)筆頭出願人である出願のみカウントしています
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公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
---|---|---|---|
特開 2021-74802 | 研削装置、及び研削方法 | 2021年 5月20日 | |
特開 2021-75739 | 基板を処理する装置、処理ガスを濃縮する装置、及び基板を処理する方法 | 2021年 5月20日 | |
特開 2021-77451 | プラズマ処理装置およびプラズマ処理方法 | 2021年 5月20日 | |
特開 2021-77662 | ウエハ、クリーニング方法、基板処理装置およびプラズマ処理システム | 2021年 5月20日 | |
特開 2021-77676 | 基板を処理する装置、原料カートリッジ、基板を処理する方法、及び原料カートリッジを製造する方法 | 2021年 5月20日 | |
特開 2021-77691 | 基板処理装置及び基板収納容器保管方法 | 2021年 5月20日 | |
特開 2021-77693 | 処理方法 | 2021年 5月20日 | |
特開 2021-77702 | 基板処理方法および基板処理装置 | 2021年 5月20日 | |
特開 2021-77709 | プラズマ処理方法及びプラズマ処理装置 | 2021年 5月20日 | |
特開 2021-77752 | プラズマ処理装置 | 2021年 5月20日 | |
特開 2021-77754 | ガス供給方法及び基板処理装置 | 2021年 5月20日 | |
特開 2021-77755 | プラズマ処理装置及びプラズマ処理方法 | 2021年 5月20日 | |
特開 2021-77759 | 監視システム | 2021年 5月20日 | |
特開 2021-77808 | プラズマ処理装置 | 2021年 5月20日 | |
特開 2021-77809 | プラズマ処理装置 | 2021年 5月20日 |
882 件中 541-555 件を表示
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2021-74802 2021-75739 2021-77451 2021-77662 2021-77676 2021-77691 2021-77693 2021-77702 2021-77709 2021-77752 2021-77754 2021-77755 2021-77759 2021-77808 2021-77809
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2月17日(月) - 大阪 大阪市
(オンライン参加可)体験談から学ぶ知的財産権 その時どうする?~海外で商標権がバッティング?オープンファクトリーの知財リスク?~
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2月19日(水) - 東京 港区
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2月20日(木) - 東京 港区
2月20日(木) -
2月20日(木) -
2月20日(木) - 東京 千代田区
2月21日(金) - 東京 千代田区
2月21日(金) - 東京 大田
パテントマップを用いた知財戦略の策定方法 -自社が勝つパテントマップ作成と それを活用した開発戦略・知財戦略の実践方法- <東京会場受講(対面)/Zoomオンライン受講 選択可> <見逃し視聴選択可>
2月21日(金) -
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2月17日(月) - 大阪 大阪市
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