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■ 2021年 出願公開件数ランキング 第33位 878件
(2020年:第43位 773件)
■ 2021年 特許取得件数ランキング 第45位 515件
(2020年:第54位 436件)
(ランキング更新日:2025年2月14日)筆頭出願人である出願のみカウントしています
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公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
---|---|---|---|
再表 2019-212059 | 上部電極およびプラズマ処理装置 | 2021年 6月10日 | |
特開 2021-88735 | 成膜方法および処理装置 | 2021年 6月10日 | |
特開 2021-89870 | プラズマ処理装置及びプラズマ処理方法 | 2021年 6月10日 | |
特開 2021-89907 | プラズマ処理装置及び電極消耗量測定方法 | 2021年 6月10日 | |
特開 2021-89983 | 基板処理装置、および基板処理方法 | 2021年 6月10日 | |
特開 2021-90018 | エッジリング及び基板処理装置 | 2021年 6月10日 | |
特開 2021-90025 | 基板処理方法及び基板処理装置 | 2021年 6月10日 | |
特開 2021-90036 | 載置台及び基板処理装置 | 2021年 6月10日 | |
特開 2021-90039 | 基板処理方法及びプラズマ処理装置 | 2021年 6月10日 | |
特開 2021-90056 | 超小型電子ワークピースの処理のための多極チャック | 2021年 6月10日 | |
特開 2021-90082 | 基板処理装置および基板処理方法 | 2021年 6月10日 | |
再表 2019-230462 | 基板処理方法、基板処理装置、及びコンピュータ読み取り可能な記録媒体 | 2021年 6月 3日 | |
特開 2021-85053 | 制御システム、制御方法、制御プログラム、および処理システム | 2021年 6月 3日 | |
特開 2021-85702 | 基板処理装置及び基板処理方法 | 2021年 6月 3日 | |
特開 2021-86571 | 異常検知装置、異常検知方法及び異常検知プログラム | 2021年 6月 3日 |
882 件中 496-510 件を表示
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2019-212059 2021-88735 2021-89870 2021-89907 2021-89983 2021-90018 2021-90025 2021-90036 2021-90039 2021-90056 2021-90082 2019-230462 2021-85053 2021-85702 2021-86571
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2月19日(水) - 東京 港区
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