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東京エレクトロン株式会社

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 ■ 2024年 出願公開件数ランキング    第27位 725件 (上昇2023年:第31位 722件)

 ■ 2024年 特許取得件数ランキング    第25位 801件 (上昇2023年:第32位 760件)

(ランキング更新日:2026年10月9日)筆頭出願人である出願のみカウントしています

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公報番号発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます)公報発行日備考
特開 2024-155506 流量制御器の校正方法および基板処理システム 2024年10月31日
特開 2024-155049 基板を処理する方法、及び基板を処理する装置 2024年10月31日
特開 2024-155532 処理液供給装置及び処理液供給方法 2024年10月31日
特開 2024-155770 基板処理システム、基板処理装置、及び基板処理方法 2024年10月31日
特開 2024-156009 接合装置および接合方法 2024年10月31日
特開 2024-154175 基板搬送機構制御方法及び基板処理システム 2024年10月30日
特開 2024-154160 プラズマ処理システム、基板処理システム及びプラズマ処理装置 2024年10月30日
特開 2024-153861 プラズマ処理システム及び環状部材の取り付け方法 2024年10月29日
特表 2024-539246 銅の湿式原子層エッチングの方法 2024年10月28日
特表 2024-539061 ルテニウムの湿式原子層エッチング方法 2024年10月28日
特表 2024-538953 ハロゲン化に基づくルテニウムCMP化学物質 2024年10月28日
特開 2024-151479 基板処理方法及び基板処理装置 2024年10月25日
特開 2024-152162 バルブおよび処理装置 2024年10月25日
特開 2024-152184 基板処理方法及び基板処理装置 2024年10月25日
特開 2024-152265 処理装置 2024年10月25日

730 件中 76-90 件を表示

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2024-155506 2024-155049 2024-155532 2024-155770 2024-156009 2024-154175 2024-154160 2024-153861 2024-539246 2024-539061 2024-538953 2024-151479 2024-152162 2024-152184 2024-152265

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