特許ランキング - 出願人詳細情報 -

東京エレクトロン株式会社

※ ログインすれば出願人(東京エレクトロン株式会社)をリストに登録できます。ログインについて

　■　2024年出願公開件数ランキング　　　第27位　725件（2023年：第31位　722件）

　■　2024年特許取得件数ランキング　　　第25位　802件（2023年：第32位　762件）

（ランキング更新日：2025年1月8日）筆頭出願人である出願のみカウントしています

2011年 2012年 2013年 2014年 2015年 2016年 2017年 2018年 2019年 2020年 2021年 2022年 2023年 2025年

東京エレクトロン株式会社の商標一覧

公報番号	発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます)	公報発行日
特開 2024-168031	基板処理システム及び基板処理方法	2024年12月 5日
特開 2024-168126	基板処理装置及び基板移載方法	2024年12月 5日
特開 2024-168188	基板処理装置	2024年12月 5日
特開 2024-168280	基板処理装置および基板処理方法	2024年12月 5日
特開 2024-168298	接合方法及び接合システム	2024年12月 5日
特開 2024-168431	基板処理装置、保守方法及び記憶媒体	2024年12月 5日
特開 2024-168452	基板処理装置および搬送位置調整方法	2024年12月 5日
特開 2024-168706	基板処理方法	2024年12月 5日
特開 2024-168799	処理液供給装置及び処理液供給方法	2024年12月 5日
特開 2024-168922	基板処理装置、基板処理方法及びプログラム	2024年12月 5日
特開 2024-167757	原料ガスを供給する方法、原料ガスを供給する装置、及び基板に成膜を行う装置	2024年12月 4日
特開 2024-167422	プラズマ処理装置	2024年12月 3日
特開 2024-166764	制御装置、半導体製造システム、半導体製造装置の制御方法及びコンピュータ記憶媒体	2024年11月29日
特開 2024-166825	プラズマ処理装置	2024年11月29日
特開 2024-165035	成膜方法及び基板処理装置	2024年11月28日

730 件中 31-45 件を表示

※ をクリックすると公報番号が選択状態になります。クリップボードにコピーする際にお使いください。

このページの公報番号をまとめてクリップボードにコピー

2024-168031 2024-168126 2024-168188 2024-168280 2024-168298 2024-168431 2024-168452 2024-168706 2024-168799 2024-168922 2024-167757 2024-167422 2024-166764 2024-166825 2024-165035

※ ログインすれば出願人をリストに登録できます。東京エレクトロン株式会社の知財の動向チェックに便利です。

ログインについて

ランキング一覧に戻る

特許ランキング

2025年特許出願件数	2025年特許取得件数
2023年特許出願件数	2023年特許取得件数
2022年特許出願件数	2022年特許取得件数
2021年特許出願件数	2021年特許取得件数
2020年特許出願件数	2020年特許取得件数
2019年特許出願件数	2019年特許取得件数
2018年特許出願件数	2018年特許取得件数
2017年特許出願件数	2017年特許取得件数
2016年特許出願件数	2016年特許取得件数
2015年特許出願件数	2015年特許取得件数
2014年特許出願件数	2014年特許取得件数
2013年特許出願件数	2013年特許取得件数
2012年特許出願件数	2012年特許取得件数
2011年特許出願件数	2011年特許取得件数