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東京エレクトロン株式会社
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■ 2024年 出願公開件数ランキング 第27位 725件
（
2023年：第31位 722件）
■ 2024年 特許取得件数ランキング 第25位 802件
（2023年：第32位 762件）
（ランキング更新日：2025年1月9日）筆頭出願人である出願のみカウントしています
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東京エレクトロン株式会社の商標一覧| 公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特開 2024-145467 | 成膜方法及び成膜装置 | 2024年10月15日 | |
| 特開 2024-145536 | 膜形成方法及び基板処理装置 | 2024年10月15日 | |
| 特開 2024-145726 | 成膜方法及び成膜装置 | 2024年10月15日 | |
| 特開 2024-146068 | 基板処理装置 | 2024年10月15日 | |
| 特開 2024-146175 | 流体制御装置及び基板処理装置 | 2024年10月15日 | |
| 特開 2024-146827 | 基板支持体の製造方法及びプラズマ処理装置の構成部材の製造方法 | 2024年10月15日 | |
| 特開 2024-142904 | 基板処理装置および処理液生成方法 | 2024年10月11日 | |
| 特開 2024-143369 | エッチング方法及びエッチング装置 | 2024年10月11日 | |
| 特開 2024-144138 | 基板処理装置 | 2024年10月11日 | |
| 特開 2024-144420 | 半導体製造装置及び処理モジュール | 2024年10月11日 | |
| 特開 2024-139936 | ＳｉＣＮ膜の形成方法及びプラズマ処理装置 | 2024年10月10日 | |
| 特開 2024-139953 | プラズマエッチング装置及びプラズマエッチング方法 | 2024年10月10日 | |
| 特開 2024-140366 | 基板処理装置 | 2024年10月10日 | |
| 特開 2024-140580 | 基板処理装置 | 2024年10月10日 | |
| 特開 2024-140693 | 基板処理装置及び基板処理方法 | 2024年10月10日 |
730 件中 121-135 件を表示
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2024-145467 2024-145536 2024-145726 2024-146068 2024-146175 2024-146827 2024-142904 2024-143369 2024-144138 2024-144420 2024-139936 2024-139953 2024-140366 2024-140580 2024-140693
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