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■ 2024年 出願公開件数ランキング 第27位 725件 (2023年:第31位 722件)
■ 2024年 特許取得件数ランキング 第25位 802件 (2023年:第32位 762件)
(ランキング更新日:2025年1月8日)筆頭出願人である出願のみカウントしています
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公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
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特開 2024-160867 | 接合装置、接合システム、及び接合方法 | 2024年11月15日 | |
特開 2024-160922 | コンピュータプログラム、情報処理装置、及び情報処理方法 | 2024年11月15日 | |
特表 2024-542631 | モリブデンをエッチングする方法 | 2024年11月15日 | |
特開 2024-160333 | 基板支持器及びプラズマ処理装置 | 2024年11月13日 | |
特表 2024-541810 | プラズマエンハンスト膜形成方法 | 2024年11月13日 | |
特表 2024-542124 | EUVリソグラフィ用のEUV活性膜 | 2024年11月13日 | |
特開 2024-158254 | 剥離装置、剥離システム、および剥離方法 | 2024年11月 8日 | |
特開 2024-159784 | エッチング方法及びプラズマ処理装置 | 2024年11月 8日 | |
特開 2024-159974 | 載置台及び基板処理装置 | 2024年11月 8日 | |
特開 2024-159975 | 載置台及び基板処理装置 | 2024年11月 8日 | |
特表 2024-541404 | ストレッサ膜を使用する精密多軸フォトリソグラフィアライメント補正 | 2024年11月 8日 | |
特開 2024-157071 | プラズマ処理方法及びプラズマ処理システム | 2024年11月 7日 | |
特開 2024-157086 | 基板処理装置、及び基板処理方法 | 2024年11月 7日 | |
特開 2024-157409 | 基板処理方法、装置、及びシステム | 2024年11月 7日 | |
特開 2024-157027 | プラズマ処理装置および電源システム | 2024年11月 6日 |
730 件中 61-75 件を表示
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2024-160867 2024-160922 2024-542631 2024-160333 2024-541810 2024-542124 2024-158254 2024-159784 2024-159974 2024-159975 2024-541404 2024-157071 2024-157086 2024-157409 2024-157027
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1月9日(木) -
1月10日(金) -
1月11日(土) -
1月11日(土) -
1月9日(木) -
1月14日(火) - 東京 港区
1月15日(水) -
1月15日(水) - 東京 千代田区
1月15日(水) -
1月15日(水) -
1月16日(木) - 石川 金沢市
1月16日(木) -
1月17日(金) - 東京 渋谷区
1月17日(金) -
1月17日(金) -
1月14日(火) - 東京 港区
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