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東京エレクトロン株式会社
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（
2023年：第31位 722件）
■ 2024年 特許取得件数ランキング 第25位 801件
（2023年：第32位 760件）
（ランキング更新日：2026年10月9日）筆頭出願人である出願のみカウントしています
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東京エレクトロン株式会社の商標一覧| 公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特許 7604145 | 基板処理方法及びプラズマ処理装置 | 2024年12月23日 | |
| 特許 7604069 | エッチングプロファイル制御のために超薄ルテニウム金属ハードマスクを使用する方法 | 2024年12月23日 | |
| 特許 7603875 | 基板加工装置及び基板加工方法 | 2024年12月20日 | |
| 特許 7603635 | エッチング方法及びプラズマ処理装置 | 2024年12月20日 | |
| 特許 7603634 | エッチング方法及びプラズマ処理装置 | 2024年12月20日 | |
| 特許 7603465 | 基板処理装置、基板処理方法及び記憶媒体 | 2024年12月20日 | |
| 特許 7603460 | 成膜方法及び成膜装置 | 2024年12月20日 | |
| 特許 7603132 | 加工装置、加工方法及びコンピュータ記憶媒体 | 2024年12月19日 | |
| 特許 7602924 | 基板処理装置、基板処理システム、基板処理方法及びコンピュータ記憶媒体 | 2024年12月19日 | |
| 特許 7601510 | 静電チャックの状態予測方法 | 2024年12月17日 | |
| 特許 7601503 | 半導体装置の製造方法及び基板処理装置 | 2024年12月17日 | |
| 特許 7601506 | 膜厚測定システム、膜厚測定方法及びプログラム | 2024年12月17日 | |
| 特許 7601507 | 処理装置及び基板搬送方法 | 2024年12月17日 | |
| 特許 7601508 | 温度測定装置及び温度測定方法 | 2024年12月17日 | |
| 特許 7601511 | プラズマ処理方法及びプラズマ処理装置 | 2024年12月17日 |
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7604145 7604069 7603875 7603635 7603634 7603465 7603460 7603132 7602924 7601510 7601503 7601506 7601507 7601508 7601511
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