東京エレクトロン株式会社

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　■　2024年出願公開件数ランキング　　　第27位　725件（2023年：第31位　722件）

　■　2024年特許取得件数ランキング　　　第25位　802件（2023年：第32位　762件）

（ランキング更新日：2025年4月15日）筆頭出願人である出願のみカウントしています

公報番号	発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます)	公報発行日
特許 7604145	基板処理方法及びプラズマ処理装置	2024年12月23日
特許 7604247	基板支持台、プラズマ処理システム及び環状部材の取り付け方法	2024年12月23日
特許 7603460	成膜方法及び成膜装置	2024年12月20日
特許 7603465	基板処理装置、基板処理方法及び記憶媒体	2024年12月20日
特許 7603634	エッチング方法及びプラズマ処理装置	2024年12月20日
特許 7603635	エッチング方法及びプラズマ処理装置	2024年12月20日
特許 7603875	基板加工装置及び基板加工方法	2024年12月20日
特許 7602924	基板処理装置、基板処理システム、基板処理方法及びコンピュータ記憶媒体	2024年12月19日
特許 7603132	加工装置、加工方法及びコンピュータ記憶媒体	2024年12月19日
特許 7601503	半導体装置の製造方法及び基板処理装置	2024年12月17日
特許 7601506	膜厚測定システム、膜厚測定方法及びプログラム	2024年12月17日
特許 7601507	処理装置及び基板搬送方法	2024年12月17日
特許 7601508	温度測定装置及び温度測定方法	2024年12月17日
特許 7601510	静電チャックの状態予測方法	2024年12月17日
特許 7601511	プラズマ処理方法及びプラズマ処理装置	2024年12月17日

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7604145 7604247 7603460 7603465 7603634 7603635 7603875 7602924 7603132 7601503 7601506 7601507 7601508 7601510 7601511

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