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東京エレクトロン株式会社
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■ 2024年 出願公開件数ランキング 第27位 725件
（
2023年：第31位 722件）
■ 2024年 特許取得件数ランキング 第25位 802件
（2023年：第32位 762件）
（ランキング更新日：2025年1月8日）筆頭出願人である出願のみカウントしています
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東京エレクトロン株式会社の商標一覧| 公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特許 7590079 | 基板処理装置、基板処理システム及び異常検知方法 | 2024年11月26日 | |
| 特許 7590081 | シャワーヘッド及び基板処理装置 | 2024年11月26日 | |
| 特許 7590082 | シャワーヘッド及び基板処理装置 | 2024年11月26日 | |
| 特許 7590089 | 管理システム、管理方法及び管理プログラム | 2024年11月26日 | |
| 特許 7589073 | 基板処理装置および基板処理方法 | 2024年11月25日 | |
| 特許 7588487 | 成膜方法 | 2024年11月22日 | |
| 特許 7588516 | プラズマ処理装置 | 2024年11月22日 | |
| 特許 7588518 | 温度制御方法及び基板処理装置 | 2024年11月22日 | |
| 特許 7588725 | 基板処理装置及び基板処理方法 | 2024年11月22日 | |
| 特許 7587734 | 周期的自己制限的エッチングプロセス | 2024年11月21日 | |
| 特許 7587548 | 温度調整用流量制御ユニットおよび半導体製造装置 | 2024年11月20日 | |
| 特許 7585593 | 積み重ねられたデバイスを有する半導体装置及びその製造方法 | 2024年11月19日 | |
| 特許 7585812 | 基板載置台及び基板処理方法。 | 2024年11月19日 | |
| 特許 7586598 | 排気リングアセンブリ及びプラズマ処理装置 | 2024年11月19日 | |
| 特許 7586599 | 成膜装置及び成膜方法 | 2024年11月19日 |
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7590079 7590081 7590082 7590089 7589073 7588487 7588516 7588518 7588725 7587734 7587548 7585593 7585812 7586598 7586599
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