東京エレクトロン株式会社

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　■　2024年出願公開件数ランキング　　　第27位　725件（2023年：第31位　722件）

　■　2024年特許取得件数ランキング　　　第25位　802件（2023年：第32位　762件）

（ランキング更新日：2025年4月15日）筆頭出願人である出願のみカウントしています

公報番号	発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます)	公報発行日
特許 7597464	プラズマ処理装置	2024年12月10日
特許 7597472	研削装置	2024年12月10日
特許 7597476	制御装置、及び記憶媒体	2024年12月10日
特許 7596509	基板処理方法及び基板処理装置	2024年12月 9日
特許 7595431	プラズマ処理方法及びプラズマ処理装置	2024年12月 6日
特許 7595473	締結構造、プラズマ処理装置及び締結方法	2024年12月 6日
特許 7595527	金属含有膜および金属含有膜の製造方法	2024年12月 6日
特許 7595541	プラズマ測定方法	2024年12月 6日
特許 7595743	基板処理方法および基板処理装置	2024年12月 6日
特許 7594717	機械学習を用いた半導体製造データ取得機器における拡張された分解能	2024年12月 5日
特許 7594883	基板処理装置及び基板処理方法	2024年12月 5日
特許 7594901	情報処理方法、情報処理装置及びコンピュータ読み取り可能な記録媒体	2024年12月 5日
特許 7594903	現像装置及び現像方法	2024年12月 5日
特許 7594914	基板処理の条件設定支援方法、基板処理システム、記憶媒体及び学習モデル	2024年12月 5日
特許 7594943	エッチング方法、基板処理装置、及び基板処理システム	2024年12月 5日

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7597464 7597472 7597476 7596509 7595431 7595473 7595527 7595541 7595743 7594717 7594883 7594901 7594903 7594914 7594943

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