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■ 2024年 出願公開件数ランキング 第27位 725件
(2023年:第31位 722件)
■ 2024年 特許取得件数ランキング 第25位 802件
(2023年:第32位 762件)
(ランキング更新日:2025年4月15日)筆頭出願人である出願のみカウントしています
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公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
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特許 7599872 | エッチング方法及びプラズマ処理装置 | 2024年12月16日 | |
特許 7599917 | 基板処理装置および基板処理方法 | 2024年12月16日 | |
特許 7600018 | 基板処理装置及び基板処理方法 | 2024年12月16日 | |
特許 7600295 | 基板処理方法及び基板処理システム | 2024年12月16日 | |
特許 7599107 | RF電圧及び電流(V-I)センサ並びに測定方法 | 2024年12月13日 | |
特許 7599273 | 基板処理システムおよび載置台の温度制御方法 | 2024年12月13日 | |
特許 7599295 | 原料ガス供給システム及び原料ガス供給方法 | 2024年12月13日 | |
特許 7599309 | 基板処理システムおよび基板処理方法 | 2024年12月13日 | |
特許 7599562 | 基板処理方法及び基板処理システム | 2024年12月13日 | |
特許 7599020 | 基板処理方法及び基板処理システム | 2024年12月12日 | |
特許 7598240 | 基板乾燥方法および基板乾燥装置 | 2024年12月11日 | |
特許 7596670 | 基板を処理する装置、及び基板を処理する方法 | 2024年12月10日 | |
特許 7597459 | 原料供給装置及び原料供給方法 | 2024年12月10日 | |
特許 7597462 | 基板保持機構及び基板載置方法 | 2024年12月10日 | |
特許 7597463 | プラズマ処理装置及びプラズマ処理方法 | 2024年12月10日 |
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7599872 7599917 7600018 7600295 7599107 7599273 7599295 7599309 7599562 7599020 7598240 7596670 7597459 7597462 7597463
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