特許ランキング - 出願人詳細情報 -

東京エレクトロン株式会社

※ ログインすれば出願人(東京エレクトロン株式会社)をリストに登録できます。ログインについて

　■　2025年出願公開件数ランキング　　　第37位　265件（2024年：第27位　725件）

　■　2025年特許取得件数ランキング　　　第21位　361件（2024年：第25位　802件）

（ランキング更新日：2025年6月4日）筆頭出願人である出願のみカウントしています

2011年 2012年 2013年 2014年 2015年 2016年 2017年 2018年 2019年 2020年 2021年 2022年 2023年 2024年

東京エレクトロン株式会社の商標一覧

公報番号	発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます)	公報発行日
特開 2025-80386	基板処理方法及び基板処理システム	2025年 5月26日
特開 2025-79492	校正方法及び基板処理システム	2025年 5月22日
特開 2025-78992	プラズマ評価システム及びプラズマ評価方法	2025年 5月21日
特開 2025-78162	成膜方法および成膜装置	2025年 5月20日
特開 2025-78407	基板処理装置および基板処理方法	2025年 5月20日
特開 2025-78658	基板処理システム	2025年 5月20日
特表 2025-515636	ヒートゾーンを使用する局所的応力処理調整によるインサイチュリソグラフィパターン強化	2025年 5月20日
特開 2025-77182	成膜方法及び成膜装置	2025年 5月19日
特開 2025-77762	基板処理方法	2025年 5月19日
特開 2025-77770	プラズマ処理装置	2025年 5月19日
特開 2025-77778	プラズマ処理装置	2025年 5月19日
特開 2025-76774	基板処理方法及び基板処理装置	2025年 5月16日
特開 2025-76788	基板処理方法及び基板処理装置	2025年 5月16日
特開 2025-76862	表示方法及び基板処理システム	2025年 5月16日
特開 2025-75295	基板処理システムの制御方法及び基板処理システム	2025年 5月15日

267 件中 16-30 件を表示

※ をクリックすると公報番号が選択状態になります。クリップボードにコピーする際にお使いください。

このページの公報番号をまとめてクリップボードにコピー

2025-80386 2025-79492 2025-78992 2025-78162 2025-78407 2025-78658 2025-515636 2025-77182 2025-77762 2025-77770 2025-77778 2025-76774 2025-76788 2025-76862 2025-75295

※ ログインすれば出願人をリストに登録できます。東京エレクトロン株式会社の知財の動向チェックに便利です。

ログインについて

ランキング一覧に戻る

特許ランキング

2024年特許出願件数	2024年特許取得件数
2023年特許出願件数	2023年特許取得件数
2022年特許出願件数	2022年特許取得件数
2021年特許出願件数	2021年特許取得件数
2020年特許出願件数	2020年特許取得件数
2019年特許出願件数	2019年特許取得件数
2018年特許出願件数	2018年特許取得件数
2017年特許出願件数	2017年特許取得件数
2016年特許出願件数	2016年特許取得件数
2015年特許出願件数	2015年特許取得件数
2014年特許出願件数	2014年特許取得件数
2013年特許出願件数	2013年特許取得件数
2012年特許出願件数	2012年特許取得件数
2011年特許出願件数	2011年特許取得件数