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東京エレクトロン株式会社
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■ 2025年 出願公開件数ランキング 第35位 566件
（
2024年：第27位 725件）
■ 2025年 特許取得件数ランキング 第22位 749件
（
2024年：第25位 802件）
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東京エレクトロン株式会社の商標一覧| 公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特許 7619862 | 基板載置台の研磨方法及び基板処理装置 | 2025年 1月22日 | |
| 特許 7617745 | プロセスモジュール、基板処理システムおよび処理方法 | 2025年 1月20日 | |
| 特許 7617747 | 処理モジュールおよび処理方法 | 2025年 1月20日 | |
| 特許 7617816 | プラズマ処理装置 | 2025年 1月20日 | |
| 特許 7616762 | プラズマ処理装置 | 2025年 1月17日 | |
| 特許 7616763 | 基板処理装置及び基板処理方法 | 2025年 1月17日 | |
| 特許 7616767 | 処理装置及び処理方法 | 2025年 1月17日 | |
| 特許 7616768 | 配管接続構造及び処理装置 | 2025年 1月17日 | |
| 特許 7616769 | シリコン膜の形成方法及び処理装置 | 2025年 1月17日 | |
| 特許 7616770 | シリコン膜の成膜方法及び成膜装置 | 2025年 1月17日 | |
| 特許 7616771 | アモルファスシリコン膜の結晶化方法 | 2025年 1月17日 | |
| 特許 7616773 | エッチング処理方法及び基板処理装置 | 2025年 1月17日 | |
| 特許 7616783 | 基板処理システム | 2025年 1月17日 | |
| 特許 7616898 | 膜厚測定装置、成膜システム及び膜厚測定方法 | 2025年 1月17日 | |
| 特許 7616899 | 基板処理装置 | 2025年 1月17日 |
757 件中 706-720 件を表示
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7619862 7617745 7617747 7617816 7616762 7616763 7616767 7616768 7616769 7616770 7616771 7616773 7616783 7616898 7616899
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【大阪会場】 前田知財塾 ～スキルアップ編～ 知財の仕事を、もっと深く、もっと面白く！ 第1回 「発明発掘・権利化業務」
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