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東京エレクトロン株式会社
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■ 2025年 特許取得件数ランキング 第22位 749件
（
2024年：第25位 802件）
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東京エレクトロン株式会社の商標一覧| 公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特許 7623094 | レーザーリフトオフ用の積層基板、基板処理方法、及び基板処理装置 | 2025年 1月28日 | |
| 特許 7621876 | 基板処理方法、部品処理方法及び基板処理装置 | 2025年 1月27日 | |
| 特許 7622192 | 基板処理装置 | 2025年 1月27日 | |
| 特許 7622252 | プラズマ処理装置、電源システム、制御方法、プログラム、及び記憶媒体 | 2025年 1月27日 | |
| 特許 7620820 | 効率的な３Ｄ集積化関連アプリケーションデータのための非常に規則的なロジック設計 | 2025年 1月24日 | |
| 特許 7621145 | 基板処理方法および基板処理装置 | 2025年 1月24日 | |
| 特許 7621186 | クリーニング方法及びプラズマ処理装置 | 2025年 1月24日 | |
| 特許 7621226 | 基板支持体アセンブリ及びプラズマ処理装置 | 2025年 1月24日 | |
| 特許 7621296 | ガス供給システム、プラズマ処理装置及びガス供給方法 | 2025年 1月24日 | |
| 特許 7621308 | プラズマ処理装置およびプラズマ処理方法 | 2025年 1月24日 | |
| 特許 7621531 | 基板処理装置 | 2025年 1月24日 | |
| 特許 7620515 | 基板処理装置、基板処理システム及び基板処理方法 | 2025年 1月23日 | |
| 特許 7619731 | 研削装置、及び研削方法 | 2025年 1月22日 | |
| 特許 7619732 | ホルダー温度検出方法、ホルダー監視方法及び基板処理装置 | 2025年 1月22日 | |
| 特許 7619734 | 基板処理装置 | 2025年 1月22日 |
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7623094 7621876 7622192 7622252 7620820 7621145 7621186 7621226 7621296 7621308 7621531 7620515 7619731 7619732 7619734
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【大阪会場】 前田知財塾 ～スキルアップ編～ 知財の仕事を、もっと深く、もっと面白く！ 第1回 「発明発掘・権利化業務」
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