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ラム　リサーチ　コーポレーション

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公報番号	発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます)	公報発行日
特開 2021-119626	寄生プラズマを抑制してウエハ内での不均一性を低減するための基板処理システム	2021年 8月12日
特表 2021-519514	炭素膜の原子層堆積	2021年 8月10日
特表 2021-519517	埋め込み温度センサを備えた基板支持体のためのコネクタ	2021年 8月10日
特表 2021-518629	低角度拡散のマルチレベルパラメータおよび周波数パルス	2021年 8月 2日
特開 2021-106293	流れ均一性を改善させるためのフェースプレート穴を有する低容積シャワーヘッド	2021年 7月26日
特開 2021-103788	エッジリングの位置決めおよびセンタリング機構を組み込んだプラズマシース調整のための交換可能および／または折りたたみ式エッジリングアセンブリ	2021年 7月15日
特開 2021-100141	エッジに限局されたイオン軌道制御及びプラズマ動作を通じた、最端エッジにおけるシース及びウエハのプロフィール調整	2021年 7月 1日
特表 2021-515968	無整合プラズマ源に対する周波数同調	2021年 6月24日
特表 2021-515988	誘電体における高アスペクト比フィーチャのプラズマエッチング化学物質	2021年 6月24日
特表 2021-515197	高電力回路からの切り離しを伴わない静電容量測定	2021年 6月17日
特表 2021-515383	プラズマチャンバ内で使用するためのリング構造およびシステム	2021年 6月17日
特表 2021-515392	セラミックベースプレートを備えるマルチプレート静電チャック	2021年 6月17日
特開 2021-93548	プラズマ処理システム	2021年 6月17日
特表 2021-514541	移動式基板搬送チャンバ	2021年 6月10日
特表 2021-514106	半導体処理ツールにおけるＲＦ電流測定	2021年 6月 3日

108 件中 61-75 件を表示

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2021-119626 2021-519514 2021-519517 2021-518629 2021-106293 2021-103788 2021-100141 2021-515968 2021-515988 2021-515197 2021-515383 2021-515392 2021-93548 2021-514541 2021-514106

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