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ラム　リサーチ　コーポレーション

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公報番号	発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます)	公報発行日
特表 2021-506117	エッジリング摩耗補償のためのシステムおよび方法	2021年 2月18日
特表 2021-506126	チャンバ調整における耐酸化保護層	2021年 2月18日
特開 2021-22752	低温ＡＬＤ被膜のためのチャンバアンダーコート準備方法	2021年 2月18日
特表 2021-504947	銅存在下での誘電体表面上へのＳｉＯ２の選択的成長	2021年 2月15日
特表 2021-504960	１つまたは複数のヒータ層を有する基板処理システムのプリント回路制御基板アセンブリ	2021年 2月15日
特表 2021-504972	単一プラズマチャンバにおける、限界寸法制御のための原子層堆積及びエッチング	2021年 2月15日
特表 2021-504973	単一プラズマ室における、フィン電界効果トランジスタ形成のための原子層堆積及びエッチング	2021年 2月15日
特表 2021-504974	粗さを低減するための原子層堆積及びエッチング	2021年 2月15日
特表 2021-504977	プラズマチャンバ壁の状態のリアルタイム監視のための方法および装置	2021年 2月15日
特表 2021-503551	ＰＥＣＶＤ金属ドープ炭素ハードマスクのための同質界面層を蒸着するためのシステムおよび方法	2021年 2月12日
特表 2021-503720	回転関節エンコーダを備えるウエハハンドリングロボット	2021年 2月12日
特表 2021-503721	ＡＬＤ膜特性の補正および可調節性のためのマルチゾーン台座	2021年 2月12日
特表 2021-503167	基板を処理するための周波数同調と整合同調とを重複させずに適用するためのシステムおよび方法	2021年 2月 4日
特表 2021-503183	プラズマ加熱された窓のマルチゾーン冷却	2021年 2月 4日
特表 2021-502674	異方性パターンエッチングおよび処理のための方法および装置	2021年 1月28日

108 件中 91-105 件を表示

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2021-506117 2021-506126 2021-22752 2021-504947 2021-504960 2021-504972 2021-504973 2021-504974 2021-504977 2021-503551 2021-503720 2021-503721 2021-503167 2021-503183 2021-502674

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