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ラム　リサーチ　コーポレーション

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　■　2021年特許取得件数ランキング　　　第407位　63件（2020年：第614位　36件）

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公報番号	発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます)	公報発行日
特開 2021-77916	半導体プロセスモジュールからｉｎ−ｓｉｔｕで消耗部品を取り出して交換するためのシステム	2021年 5月20日
特表 2021-512493	静電チャック（ＥＳＣ）ペデスタル電圧分離	2021年 5月13日
特表 2021-512502	アモルファスカーボン層の開孔プロセス	2021年 5月13日
特表 2021-512504	マルチプルパターンニング処理での原子層堆積を使用するスペーサプロファイル制御	2021年 5月13日
特開 2021-73705	半導体ウエハ処理中におけるエッジ処理制御のための可動式エッジ連結リング	2021年 5月13日
特表 2021-511673	パターニングにおける酸化スズマンドレル	2021年 5月 6日
特表 2021-510237	追加の回転軸を有する回転インデクサ	2021年 4月15日
特開 2021-61422	背面ガス供給管を備えた基板ペデスタルモジュールおよびその製造方法	2021年 4月15日
特開 2021-61442	半導体製造チャンバ内の消耗部品の余寿命の推定	2021年 4月15日
特表 2021-509770	プラズマ処理副生成物を管理するための構成要素および処理	2021年 4月 1日
特表 2021-509444	化学的阻害を使用する膜の共形性調整	2021年 3月25日
特表 2021-509557	高電力無線周波数の螺旋コイルフィルタ	2021年 3月25日
特表 2021-508413	半導体ＲＦプラズマ処理のためのパルス内のＲＦパルス	2021年 3月 4日
特表 2021-507513	半導体処理のためのチャンバ構成要素のエクスサイチュコーティング	2021年 2月22日
特表 2021-505766	遠隔プラズマ膜蒸着を可能にするためにラジカルおよび前駆体ガスを下流チャンバに供給するための改良された孔パターンを備える統合シャワーヘッド	2021年 2月18日

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2021-77916 2021-512493 2021-512502 2021-512504 2021-73705 2021-511673 2021-510237 2021-61422 2021-61442 2021-509770 2021-509444 2021-509557 2021-508413 2021-507513 2021-505766

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