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ラム リサーチ コーポレーション

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  2021年 出願公開件数ランキング    第341位 108件 上昇2020年:第499位 66件)

  2021年 特許取得件数ランキング    第407位 63件 上昇2020年:第614位 36件)

(ランキング更新日:2024年11月22日)筆頭出願人である出願のみカウントしています

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公報番号発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます)公報発行日備考
特表 2021-532271 半導体基板処理におけるペデスタルへの蒸着の防止 2021年11月25日
特表 2021-532548 小型高密度プラズマ供給源 2021年11月25日
特表 2021-532573 電子励起原子層エッチング 2021年11月25日
特表 2021-532574 高アスペクト比の誘電体エッチングを達成するための3つ以上の状態 2021年11月25日
特表 2021-532581 ガス分配器および流量検証器 2021年11月25日
特表 2021-532601 トリムプロセスに対する限界寸法の変化の改善をもたらすチャンバおよびプロセスの補償 2021年11月25日
特表 2021-531410 プラズマ処理チャンバ構成要素のための表面コーティング 2021年11月18日
特表 2021-531650 プラズマチャンバ内温度のリアルタイム制御 2021年11月18日
特表 2021-530852 プラズマソース用の磁気シールド 2021年11月11日
特表 2021-530866 制御されたエッチングのための単一エネルギイオン生成 2021年11月11日
特表 2021-530099 径方向エッチング均一性の能動制御 2021年11月 4日
特表 2021-530109 基板処理システムにおける基板支持体の動的温度制御 2021年11月 4日
特表 2021-529435 ライナの不動態化および接着性改善のための金属ライナのジンケート処理およびドーピング 2021年10月28日
特開 2021-170663 可動エッジリング設計 2021年10月28日
特開 2021-170671 半導体処理装置においてシャワーヘッド傾斜を動的に調整するためのアクチュエータ 2021年10月28日

108 件中 16-30 件を表示

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2021-532271 2021-532548 2021-532573 2021-532574 2021-532581 2021-532601 2021-531410 2021-531650 2021-530852 2021-530866 2021-530099 2021-530109 2021-529435 2021-170663 2021-170671

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