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■ 2021年 出願公開件数ランキング 第341位 108件 (2020年:第499位 66件)
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公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
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特表 2021-532271 | 半導体基板処理におけるペデスタルへの蒸着の防止 | 2021年11月25日 | |
特表 2021-532548 | 小型高密度プラズマ供給源 | 2021年11月25日 | |
特表 2021-532573 | 電子励起原子層エッチング | 2021年11月25日 | |
特表 2021-532574 | 高アスペクト比の誘電体エッチングを達成するための3つ以上の状態 | 2021年11月25日 | |
特表 2021-532581 | ガス分配器および流量検証器 | 2021年11月25日 | |
特表 2021-532601 | トリムプロセスに対する限界寸法の変化の改善をもたらすチャンバおよびプロセスの補償 | 2021年11月25日 | |
特表 2021-531410 | プラズマ処理チャンバ構成要素のための表面コーティング | 2021年11月18日 | |
特表 2021-531650 | プラズマチャンバ内温度のリアルタイム制御 | 2021年11月18日 | |
特表 2021-530852 | プラズマソース用の磁気シールド | 2021年11月11日 | |
特表 2021-530866 | 制御されたエッチングのための単一エネルギイオン生成 | 2021年11月11日 | |
特表 2021-530099 | 径方向エッチング均一性の能動制御 | 2021年11月 4日 | |
特表 2021-530109 | 基板処理システムにおける基板支持体の動的温度制御 | 2021年11月 4日 | |
特表 2021-529435 | ライナの不動態化および接着性改善のための金属ライナのジンケート処理およびドーピング | 2021年10月28日 | |
特開 2021-170663 | 可動エッジリング設計 | 2021年10月28日 | |
特開 2021-170671 | 半導体処理装置においてシャワーヘッド傾斜を動的に調整するためのアクチュエータ | 2021年10月28日 |
108 件中 16-30 件を表示
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2021-532271 2021-532548 2021-532573 2021-532574 2021-532581 2021-532601 2021-531410 2021-531650 2021-530852 2021-530866 2021-530099 2021-530109 2021-529435 2021-170663 2021-170671
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11月22日(金) -
11月22日(金) - 東京 千代田区
11月22日(金) - 東京 港区
11月22日(金) -
11月22日(金) - 大阪 大阪市
11月22日(金) -
11月22日(金) -
11月25日(月) -
11月25日(月) - 岐阜 各務原市
11月26日(火) -
11月26日(火) - 東京 港区
11月26日(火) -
11月26日(火) -
11月26日(火) -
11月27日(水) - 東京 港区
11月27日(水) -
11月27日(水) -
11月27日(水) -
11月27日(水) -
11月28日(木) - 東京 港区
11月28日(木) - 島根 松江市
11月28日(木) - 京都 京都市
11月28日(木) -
11月28日(木) - 大阪 大阪市
11月28日(木) -
11月29日(金) - 東京 港区
11月29日(金) - 茨城 ひたちなか市
11月30日(土) -
12月1日(日) -
12月1日(日) -
11月25日(月) -
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