特許ランキング - 出願人詳細情報 -

ラム　リサーチ　コーポレーション

※ ログインすれば出願人(ラム　リサーチ　コーポレーション)をリストに登録できます。ログインについて

　■　2021年出願公開件数ランキング　　　第341位　108件（2020年：第499位　66件）

　■　2021年特許取得件数ランキング　　　第407位　63件（2020年：第614位　36件）

（ランキング更新日：2025年2月14日）筆頭出願人である出願のみカウントしています

2011年 2012年 2013年 2014年 2015年 2016年 2017年 2018年 2019年 2020年 2022年 2023年 2024年 2025年

ラム　リサーチ　コーポレーションの商標一覧

公報番号	発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます)	公報発行日
特開 2021-132226	ウエハ裏面における堆積の低減のための可変温度ハードウェアおよび方法	2021年 9月 9日
特表 2021-523292	３Ｄ　ＮＡＮＤ構造内にタングステンおよび他の金属を堆積させる方法	2021年 9月 2日
特表 2021-523403	ＥＵＶパターン化可能ハードマスクを形成するための方法	2021年 9月 2日
特表 2021-523462	構成可能な分散インターロック−システム	2021年 9月 2日
特表 2021-523560	熱エッチングおよび原子層エッチングにおけるエッチング特性の予測	2021年 9月 2日
特表 2021-523563	ウエハチャックアセンブリ	2021年 9月 2日
特表 2021-523564	テレセントリックレンズ、光ビーム折り畳みアセンブリ、またはポリゴンスキャナを有するレンズ回路を含む原子層エッチングおよび原子層堆積の処理システム	2021年 9月 2日
特表 2021-522407	エッジエクスクルージョン制御	2021年 8月30日
特表 2021-521640	基板処理中の基板温度の決定および制御	2021年 8月26日
特表 2021-520544	ＭＥＭＳコリオリ・ガス流量制御器	2021年 8月19日
特表 2021-520628	酸化ハフニウム系強誘電材料のためのキャップ層	2021年 8月19日
特表 2021-520629	窒化ハフニウム層による酸化ハフニウムの強誘電特性の変更	2021年 8月19日
特表 2021-520634	封止表面を有する静電チャック	2021年 8月19日
特表 2021-519700	ＭＥＭＳに基づくコリオリ質量流コントローラ	2021年 8月12日
特開 2021-119625	ミドルリング	2021年 8月12日

108 件中 46-60 件を表示

※ をクリックすると公報番号が選択状態になります。クリップボードにコピーする際にお使いください。

このページの公報番号をまとめてクリップボードにコピー

2021-132226 2021-523292 2021-523403 2021-523462 2021-523560 2021-523563 2021-523564 2021-522407 2021-521640 2021-520544 2021-520628 2021-520629 2021-520634 2021-519700 2021-119625

※ ログインすれば出願人をリストに登録できます。ラム　リサーチ　コーポレーションの知財の動向チェックに便利です。

ログインについて

ランキング一覧に戻る

特許ランキング

2025年特許出願件数	2025年特許取得件数
2024年特許出願件数	2024年特許取得件数
2023年特許出願件数	2023年特許取得件数
2022年特許出願件数	2022年特許取得件数
2020年特許出願件数	2020年特許取得件数
2019年特許出願件数	2019年特許取得件数
2018年特許出願件数	2018年特許取得件数
2017年特許出願件数	2017年特許取得件数
2016年特許出願件数	2016年特許取得件数
2015年特許出願件数	2015年特許取得件数
2014年特許出願件数	2014年特許取得件数
2013年特許出願件数	2013年特許取得件数
2012年特許出願件数	2012年特許取得件数
2011年特許出願件数	2011年特許取得件数