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■ 2025年 出願公開件数ランキング 第126位 262件
(
2024年:第178位 197件)
■ 2025年 特許取得件数ランキング 第136位 215件
(
2024年:第216位 154件)
(ランキング更新日:2026年5月1日)筆頭出願人である出願のみカウントしています
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| 公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特許 7753351 | TCPチャンバのガスプレートを浮遊させるためのキャリアリング | 2025年10月14日 | |
| 特許 7752131 | 基板支持アセンブリのフローティングPCB設計 | 2025年10月 9日 | |
| 特許 7752139 | 複数の加熱ゾーンおよび熱ボイドを使用した台座熱プロファイルの調節 | 2025年10月 9日 | |
| 特許 7752172 | プラズマ処理システム用の可動エッジリング | 2025年10月 9日 | |
| 特許 7749784 | 無線周波数支援プラズマ生成におけるインピーダンス変換 | 2025年10月 6日 | |
| 特許 7748495 | 基板処理システムにおける基板支持体の動的温度制御 | 2025年10月 2日 | |
| 特許 7748515 | 電気メッキのための幅広リップシール | 2025年10月 2日 | |
| 特許 7748517 | KHZ RF発生器の動作サイクル内でMHZ RF発生器を調節するためのシステムおよび方法 | 2025年10月 2日 | |
| 特許 7746453 | 基板処理システムのための温度調節された基板支持体 | 2025年 9月30日 | |
| 特許 7744962 | 熱エッチングおよび原子層エッチングにおけるエッチング特性の予測 | 2025年 9月26日 | |
| 特許 7743509 | 真のラジカル処理のためのリモートプラズマアーキテクチャ | 2025年 9月24日 | |
| 特許 7743527 | 機械的強度または寿命に影響を与えることのないプラズマ均一性のためのCシュラウド改良 | 2025年 9月24日 | |
| 特許 7742877 | 磁場を用いるプラズマ放電の不均一性制御 | 2025年 9月22日 | |
| 特許 7741824 | フラットボトムシャドーリング | 2025年 9月18日 | |
| 特許 7741097 | ウエハエッジにおける材料特性を維持するためのリップシールエッジエクスクルージョン処理 | 2025年 9月17日 |
215 件中 46-60 件を表示
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7753351 7752131 7752139 7752172 7749784 7748495 7748515 7748517 7746453 7744962 7743509 7743527 7742877 7741824 7741097
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