ホーム > 特許ランキング > 信越化学工業株式会社 > 2022年 > 特許一覧
※ ログインすれば出願人(信越化学工業株式会社)をリストに登録できます。ログインについて
■ 2022年 出願公開件数ランキング 第100位 332件 (2021年:第83位 467件)
■ 2022年 特許取得件数ランキング 第71位 431件 (2021年:第72位 358件)
(ランキング更新日:2024年11月13日)筆頭出願人である出願のみカウントしています
2011年 2012年 2013年 2014年 2015年 2016年 2017年 2018年 2019年 2020年 2021年 2023年 2024年
公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
---|---|---|---|
特許 7190392 | ヒプロメロースフタル酸エステル及びその製造方法 | 2022年12月15日 | |
特許 7190411 | 複合伸縮性膜及びその形成方法 | 2022年12月15日 | |
特許 7190420 | コアシェル型量子ドットの製造方法 | 2022年12月15日 | |
特許 7190422 | 4-メチル-5-ノナノン及び4-メチル-5-ノナノールの製造方法 | 2022年12月15日 | |
特許 7190461 | シリコーン、及びその製造方法 | 2022年12月15日 | |
特許 7189977 | 光アイソレータ | 2022年12月14日 | |
特許 7188309 | 熱硬化性マレイミド樹脂組成物及び半導体装置 | 2022年12月13日 | |
特許 7188600 | 含フッ素有機ケイ素化合物の薄膜の光学定数計測方法 | 2022年12月13日 | |
特許 7188692 | 温度センサ | 2022年12月13日 | |
特許 7186099 | 非水電解質二次電池用負極活物質及びその製造方法 | 2022年12月 8日 | |
特許 7186156 | 負極活物質、負極及び負極活物質の製造方法 | 2022年12月 8日 | |
特許 7183939 | ポリシロキサン骨格含有ポリマー、感光性樹脂組成物、パターン形成方法、及び光半導体素子の製造方法 | 2022年12月 6日 | |
特許 7184990 | 粘着剤組成物 | 2022年12月 6日 | |
特許 7182438 | 反射防止膜、反射防止膜の製造方法、及び眼鏡型ディスプレイ | 2022年12月 2日 | |
特許 7182469 | 分散性粉体及び化粧料 | 2022年12月 2日 |
445 件中 16-30 件を表示
※ をクリックすると公報番号が選択状態になります。クリップボードにコピーする際にお使いください。
このページの公報番号をまとめてクリップボードにコピー
7190392 7190411 7190420 7190422 7190461 7189977 7188309 7188600 7188692 7186099 7186156 7183939 7184990 7182438 7182469
※ ログインすれば出願人をリストに登録できます。信越化学工業株式会社の知財の動向チェックに便利です。
11月13日(水) - 東京 港区
11月13日(水) - 福井 福井市
11月13日(水) -
11月13日(水) -
11月13日(水) -
11月13日(水) -
11月14日(木) - 東京 港区
11月14日(木) - 愛知 名古屋市
11月14日(木) - 東京 中央区
11月15日(金) - 東京 港区
11月15日(金) -
11月15日(金) - 東京 港区
11月15日(金) -
11月15日(金) -
11月16日(土) - 東京 中央区
11月13日(水) - 東京 港区
11月18日(月) -
11月19日(火) -
11月19日(火) - 東京 港区
11月19日(火) - 大阪 大阪市
11月19日(火) -
11月20日(水) -
11月20日(水) -
11月20日(水) -
11月20日(水) -
11月20日(水) -
11月21日(木) - 東京 港区
11月21日(木) - 愛知 名古屋市
11月21日(木) -
11月21日(木) -
11月22日(金) -
11月22日(金) - 東京 千代田区
11月22日(金) - 東京 港区
11月22日(金) -
11月22日(金) - 大阪 大阪市
11月22日(金) -
11月18日(月) -
〒248-0006 神奈川県鎌倉市小町2-11-14 山中MRビル3F 特許・実用新案 意匠 商標 外国特許 外国意匠 外国商標 訴訟 鑑定 コンサルティング
東京都新宿区新宿5-10-1 第2スカイビル6階 特許・実用新案 意匠 商標 外国特許 外国意匠 外国商標 訴訟 鑑定 コンサルティング
〒166-0003 東京都杉並区高円寺南2-50-2 YSビル3F 特許・実用新案 意匠 商標 外国特許 外国意匠 外国商標 訴訟 鑑定 コンサルティング