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■ 2016年 出願公開件数ランキング 第354位 106件
(2015年:第475位 70件)
■ 2016年 特許取得件数ランキング 第493位 56件
(2015年:第385位 67件)
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公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
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特開 2016-201491 | 電子線描画装置 | 2016年12月 1日 | |
特開 2016-197503 | 電子ビーム装置 | 2016年11月24日 | |
特開 2016-194482 | 検査方法および検査装置 | 2016年11月17日 | |
特開 2016-186960 | 成膜装置及び温度測定方法 | 2016年10月27日 | |
特開 2016-184605 | 荷電粒子ビーム描画装置及び描画データ作成方法 | 2016年10月20日 | |
特開 2016-184671 | マルチ荷電粒子ビーム描画装置及びマルチ荷電粒子ビーム描画方法 | 2016年10月20日 | |
特開 2016-181668 | 荷電粒子ビーム描画装置及び荷電粒子ビーム描画方法 | 2016年10月13日 | |
特開 2016-178231 | 荷電粒子ビーム描画装置及び荷電粒子ビームのビーム分解能測定方法 | 2016年10月 6日 | |
特開 2016-170287 | 真空装置及び荷電粒子ビーム描画装置 | 2016年 9月23日 | |
特開 2016-171066 | ヒータおよびこれを用いた半導体製造装置 | 2016年 9月23日 | |
特開 2016-165687 | マスクカバーのクリーニング方法及びクリーニング基板 | 2016年 9月15日 | |
特開 2016-166789 | 検査装置および検査方法 | 2016年 9月15日 | |
特開 2016-166924 | ステージ装置 | 2016年 9月15日 | |
特開 2016-163007 | クリーニング方法及びダミーウエハ | 2016年 9月 5日 | |
特開 2016-156746 | 線幅誤差取得方法、線幅誤差取得装置および検査システム | 2016年 9月 1日 |
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2016-201491 2016-197503 2016-194482 2016-186960 2016-184605 2016-184671 2016-181668 2016-178231 2016-170287 2016-171066 2016-165687 2016-166789 2016-166924 2016-163007 2016-156746
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