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株式会社ニューフレアテクノロジー

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　■　2016年出願公開件数ランキング　　　第354位　106件（2015年：第475位　70件）

　■　2016年特許取得件数ランキング　　　第493位　56件（2015年：第385位　67件）

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株式会社ニューフレアテクノロジーの商標一覧

公報番号	発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます)	公報発行日
特開 2016-100445	荷電粒子ビーム描画装置及び荷電粒子ビーム描画方法	2016年 5月30日
特開 2016-96204	出力調整方法及び電子線描画装置	2016年 5月26日
特開 2016-96251	レジスト評価方法及び電子ビーム描画方法	2016年 5月26日
特開 2016-96270	マルチ荷電粒子ビーム用のブランキングシステム及びマルチ荷電粒子ビーム描画装置	2016年 5月26日
特開 2016-89239	気相成長方法および気相成長装置	2016年 5月23日
特開 2016-89240	気相成長装置、貯留容器および気相成長方法	2016年 5月23日
特開 2016-92311	気相成長装置および気相成長方法	2016年 5月23日
特開 2016-86100	気相成長装置および気相成長方法	2016年 5月19日
特開 2016-80374	保持装置、検査装置および検査方法	2016年 5月16日
特開 2016-80590	放射温度計及び温度測定方法	2016年 5月16日
特開 2016-81945	気相成長装置および気相成長方法	2016年 5月16日
特開 2016-82106	マルチ荷電粒子ビームのブランキング装置及びマルチ荷電粒子ビーム描画装置	2016年 5月16日
特開 2016-82117	レジスト膜の形成方法および描画方法	2016年 5月16日
特開 2016-82131	荷電粒子ビーム描画装置、荷電粒子ビームを用いた描画方法、および荷電粒子ビーム描画でのショット補正方法	2016年 5月16日
特開 2016-82147	描画データ検証方法、プログラム、及びマルチ荷電粒子ビーム描画装置	2016年 5月16日

107 件中 61-75 件を表示

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2016-100445 2016-96204 2016-96251 2016-96270 2016-89239 2016-89240 2016-92311 2016-86100 2016-80374 2016-80590 2016-81945 2016-82106 2016-82117 2016-82131 2016-82147

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