特許ランキング - 出願人詳細情報 -

株式会社ニューフレアテクノロジー

※ ログインすれば出願人(株式会社ニューフレアテクノロジー)をリストに登録できます。ログインについて

　■　2016年出願公開件数ランキング　　　第354位　106件（2015年：第475位　70件）

　■　2016年特許取得件数ランキング　　　第493位　56件（2015年：第385位　67件）

（ランキング更新日：2025年2月18日）筆頭出願人である出願のみカウントしています

2011年 2012年 2013年 2014年 2015年 2017年 2018年 2019年 2020年 2021年 2022年 2023年 2024年 2025年

株式会社ニューフレアテクノロジーの商標一覧

公報番号	発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます)	公報発行日
特開 2016-54292	マルチ荷電粒子ビームのブランキング装置の検査方法	2016年 4月14日
特開 2016-51851	タレット荷電粒子銃クリーナーおよびタレット荷電粒子銃のパーティクル除去方法	2016年 4月11日
特開 2016-46340	荷電粒子ビーム装置及び振動減衰機構	2016年 4月 4日
特開 2016-46385	アパーチャ部材製造方法	2016年 4月 4日
特開 2016-46432	異常検出方法及び電子線描画装置	2016年 4月 4日
特開 2016-38314	マスク検査装置及びマスク検査方法	2016年 3月22日
特開 2016-35539	位置測定方法、位置ずれマップの作成方法および検査システム	2016年 3月17日
特開 2016-35542	位置測定方法、位置ずれマップの作成方法および検査システム	2016年 3月17日
特開 2016-33997	気相成長装置および気相成長方法	2016年 3月10日
特開 2016-27609	荷電粒子ビーム描画装置及び荷電粒子ビーム描画方法	2016年 2月18日
特開 2016-25128	荷電粒子ビーム描画装置および荷電粒子ビーム描画方法	2016年 2月 8日
特開 2016-25309	成膜装置、サセプタ、及び成膜方法	2016年 2月 8日
特開 2016-21004	マスク検査装置及びマスク検査方法	2016年 2月 4日
特開 2016-17185	半導体製造装置および半導体装置の製造方法	2016年 2月 1日
特開 2016-9180	マスク検査装置、マスク評価方法及びマスク評価システム	2016年 1月18日

107 件中 91-105 件を表示

... 7

※ をクリックすると公報番号が選択状態になります。クリップボードにコピーする際にお使いください。

このページの公報番号をまとめてクリップボードにコピー

2016-54292 2016-51851 2016-46340 2016-46385 2016-46432 2016-38314 2016-35539 2016-35542 2016-33997 2016-27609 2016-25128 2016-25309 2016-21004 2016-17185 2016-9180

※ ログインすれば出願人をリストに登録できます。株式会社ニューフレアテクノロジーの知財の動向チェックに便利です。

ログインについて

ランキング一覧に戻る

特許ランキング

2025年特許出願件数	2025年特許取得件数
2024年特許出願件数	2024年特許取得件数
2023年特許出願件数	2023年特許取得件数
2022年特許出願件数	2022年特許取得件数
2021年特許出願件数	2021年特許取得件数
2020年特許出願件数	2020年特許取得件数
2019年特許出願件数	2019年特許取得件数
2018年特許出願件数	2018年特許取得件数
2017年特許出願件数	2017年特許取得件数
2015年特許出願件数	2015年特許取得件数
2014年特許出願件数	2014年特許取得件数
2013年特許出願件数	2013年特許取得件数
2012年特許出願件数	2012年特許取得件数
2011年特許出願件数	2011年特許取得件数