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株式会社ニューフレアテクノロジー

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  2019年 出願公開件数ランキング    第387位 99件 上昇2018年:第415位 83件)

  2019年 特許取得件数ランキング    第385位 68件 上昇2018年:第450位 58件)

(ランキング更新日:2024年11月29日)筆頭出願人である出願のみカウントしています

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公報番号発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます)公報発行日備考
特開 2019-204694 マルチ電子ビーム画像取得装置及びマルチ電子ビーム光学系の位置決め方法 2019年11月28日
特開 2019-204857 電子ビーム照射方法、電子ビーム照射装置、及びプログラム 2019年11月28日
特開 2019-204898 マルチ荷電粒子ビーム描画装置、マルチ荷電粒子ビーム描画装置用ブランキングアパーチャアレイ、マルチ荷電粒子ビーム描画装置の運用方法、及びマルチ荷電粒子ビーム描画方法 2019年11月28日
特開 2019-204975 気相成長装置及び気相成長方法 2019年11月28日
特開 2019-200052 パターン検査装置及びパターン検査方法 2019年11月21日
特開 2019-200277 EUVマスク検査装置及びEUVマスク検査方法 2019年11月21日
特開 2019-200920 マルチ電子ビーム画像取得装置およびマルチ電子ビーム画像取得方法 2019年11月21日
特開 2019-200983 マルチ電子ビーム照射装置、マルチ電子ビーム検査装置及びマルチ電子ビーム照射方法 2019年11月21日
特開 2019-201071 荷電粒子ビーム描画装置及び荷電粒子ビーム描画方法 2019年11月21日
特開 2019-201111 荷電粒子ビーム描画装置及び荷電粒子ビーム描画方法 2019年11月21日
特開 2019-197757 荷電粒子ビーム描画装置及び荷電粒子ビーム描画方法 2019年11月14日
特開 2019-192788 荷電粒子ビーム描画装置及び荷電粒子ビーム描画方法 2019年10月31日
特開 2019-184461 パターン検査装置 2019年10月24日
特開 2019-186140 マルチ荷電粒子ビーム照射装置及びマルチ荷電粒子ビーム照射方法 2019年10月24日
特開 2019-186584 マルチ荷電粒子ビーム描画装置及びマルチ荷電粒子ビーム描画方法 2019年10月24日

102 件中 16-30 件を表示

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2019-204694 2019-204857 2019-204898 2019-204975 2019-200052 2019-200277 2019-200920 2019-200983 2019-201071 2019-201111 2019-197757 2019-192788 2019-184461 2019-186140 2019-186584

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