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■ 2019年 出願公開件数ランキング 第387位 99件 (2018年:第415位 83件)
■ 2019年 特許取得件数ランキング 第385位 68件 (2018年:第450位 58件)
(ランキング更新日:2024年11月29日)筆頭出願人である出願のみカウントしています
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公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
---|---|---|---|
特開 2019-68000 | シミュレーション装置、荷電粒子ビーム描画システム、及び荷電粒子ビーム描画方法 | 2019年 4月25日 | |
特開 2019-61928 | 電子ビーム画像取得装置および電子ビーム画像取得方法 | 2019年 4月18日 | |
特開 2019-62069 | 荷電粒子ビーム照射装置及び基板の帯電低減方法 | 2019年 4月18日 | |
特開 2019-57562 | 描画データ生成方法、プログラム、マルチ荷電粒子ビーム描画装置、及びパターン検査装置 | 2019年 4月11日 | |
特開 2019-57668 | 成膜装置、および成膜方法 | 2019年 4月11日 | |
特開 2019-53070 | 曲率測定装置及び曲率測定方法 | 2019年 4月 4日 | |
特開 2019-54050 | 荷電粒子ビーム描画装置及びブランキング回路の故障診断方法 | 2019年 4月 4日 | |
特開 2019-50141 | 荷電粒子装置、荷電粒子描画装置および荷電粒子ビーム制御方法 | 2019年 3月28日 | |
特開 2019-50291 | 半導体装置及びその製造方法 | 2019年 3月28日 | |
特開 2019-46855 | 気相成長方法 | 2019年 3月22日 | |
特開 2019-39808 | パターン検査装置及びパターン検査方法 | 2019年 3月14日 | |
特開 2019-40035 | パターン修正方法及びフォトマスク製造方法 | 2019年 3月14日 | |
特開 2019-36403 | 画像取得装置の光学系調整方法 | 2019年 3月 7日 | |
特開 2019-36580 | マルチ荷電粒子ビーム描画装置 | 2019年 3月 7日 | |
特開 2019-33117 | マルチ荷電粒子ビーム描画装置及びマルチ荷電粒子ビーム描画方法 | 2019年 2月28日 |
102 件中 76-90 件を表示
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2019-68000 2019-61928 2019-62069 2019-57562 2019-57668 2019-53070 2019-54050 2019-50141 2019-50291 2019-46855 2019-39808 2019-40035 2019-36403 2019-36580 2019-33117
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11月29日(金) - 東京 港区
11月29日(金) - 茨城 ひたちなか市
11月30日(土) -
12月1日(日) -
12月1日(日) -
11月29日(金) - 東京 港区
12月2日(月) - 滋賀 草津市
新製品開発の「タネ」がみつかる!株式会社リコーによるシーズ発表会 ~リコーの技術(シーズ)やアイデアを使って新製品をつくりませんか?~
12月2日(月) -
12月4日(水) - 東京 千代田区
12月4日(水) - 東京 港区
12月4日(水) -
12月4日(水) - 大阪 大阪市
12月4日(水) -
12月4日(水) -
12月5日(木) - 東京 港区
12月5日(木) -
12月5日(木) -
12月5日(木) - 大阪 大阪市
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12月6日(金) -
12月6日(金) - 愛知 豊橋市花田町
12月6日(金) -
12月2日(月) - 滋賀 草津市
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