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株式会社ニューフレアテクノロジー
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■ 2019年 出願公開件数ランキング 第387位 99件
（
2018年：第415位 83件）
■ 2019年 特許取得件数ランキング 第385位 68件
（2018年：第450位 58件）
（ランキング更新日：2024年11月29日）筆頭出願人である出願のみカウントしています
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株式会社ニューフレアテクノロジーの商標一覧| 公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特開 2019-27893 | 検査装置 | 2019年 2月21日 | |
| 特開 2019-29484 | マルチ荷電粒子ビーム描画装置及びマルチ荷電粒子ビーム描画方法 | 2019年 2月21日 | |
| 特開 2019-29567 | 荷電粒子ビーム描画装置、荷電粒子ビーム描画方法、及びパターン形成方法 | 2019年 2月21日 | |
| 特開 2019-29575 | マルチ荷電粒子ビーム描画装置及びマルチ荷電粒子ビーム描画方法 | 2019年 2月21日 | |
| 特開 2019-20274 | パターン検査方法およびパターン検査装置 | 2019年 2月 7日 | |
| 特開 2019-20292 | パターン検査装置及びパターン検査方法 | 2019年 2月 7日 | |
| 特開 2019-21532 | 電子ビーム画像取得装置及び電子ビーム画像取得方法 | 2019年 2月 7日 | |
| 特開 2019-21765 | 荷電粒子ビーム描画装置及び荷電粒子ビーム描画方法 | 2019年 2月 7日 | |
| 特開 2019-9208 | 半導体装置 | 2019年 1月17日 | |
| 特開 2019-2879 | 偏光イメージ取得装置、パターン検査装置、偏光イメージ取得方法、及びパターン検査方法 | 2019年 1月10日 | |
| 特開 2019-3203 | 検査方法および検査装置 | 2019年 1月10日 | |
| 特開 2019-4024 | データ処理方法、荷電粒子ビーム描画装置、及び荷電粒子ビーム描画システム | 2019年 1月10日 |
102 件中 91-102 件を表示
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2019-27893 2019-29484 2019-29567 2019-29575 2019-20274 2019-20292 2019-21532 2019-21765 2019-9208 2019-2879 2019-3203 2019-4024
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