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■ 2015年 出願公開件数ランキング 第263位 162件
(2014年: 0件)
■ 2015年 特許取得件数ランキング 第236位 126件
(2014年: 0件)
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公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
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特許 5684988 | 半導体製造装置用センサシステム | 2015年 3月18日 | |
特許 5686944 | アモルファスカーボン層の高温堆積のための方法 | 2015年 3月18日 | |
特許 5686952 | 温度および放射率/パターン補償を含む膜形成装置および方法 | 2015年 3月18日 | |
特許 5686999 | 改良されたチャンバ洗浄方法及び装置 | 2015年 3月18日 | |
特許 5687249 | 走査による熱束処理 | 2015年 3月18日 | |
特許 5683063 | 窒化アルミニウム又は酸化ベリリウムのセラミックカバーウェハ | 2015年 3月11日 | |
特許 5683110 | 赤外線透過による基板温度測定 | 2015年 3月11日 | |
特許 5683469 | 大型プラズマ処理チャンバのRF復路 | 2015年 3月11日 | |
特許 5674479 | 還元プラズマに耐性のイットリウム含有セラミックコーティング | 2015年 2月25日 | |
特許 5674663 | スルー基板ビアの側壁及び他の深堀りエッチングされた構造を平滑化するためのポストエッチング反応性プラズマミーリング | 2015年 2月25日 | |
特許 5675032 | 高温ロボットエンドエフェクタ | 2015年 2月25日 | |
特許 5675605 | 原子層堆積装置 | 2015年 2月25日 | |
特許 5675617 | 加工時における基板の分光モニタリングを使用した研磨速度の調整 | 2015年 2月25日 | |
特許 5675626 | 研磨パッド端部の延伸 | 2015年 2月25日 | |
特許 5675851 | 耐アーク放電ゼロフィールドプレート | 2015年 2月25日 |
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5684988 5686944 5686952 5686999 5687249 5683063 5683110 5683469 5674479 5674663 5675032 5675605 5675617 5675626 5675851
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