特許ランキング - 出願人詳細情報 -

アプライド　マテリアルズ　インコーポレイテッド

※ ログインすれば出願人(アプライド　マテリアルズ　インコーポレイテッド)をリストに登録できます。ログインについて

　■　2016年出願公開件数ランキング　　　第200位　217件（2015年：第263位　162件）

　■　2016年特許取得件数ランキング　　　第268位　121件（2015年：第236位　126件）

（ランキング更新日：2025年1月31日）筆頭出願人である出願のみカウントしています

2011年 2012年 2013年 2014年 2015年 2017年 2018年 2019年 2020年 2021年 2022年 2023年 2024年 2025年

アプライド　マテリアルズ　インコーポレイテッドの商標一覧

公報番号	発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます)	公報発行日
特表 2016-539506	バッチ処理用傾斜プレート及びその使用方法	2016年12月15日
特表 2016-539507	ガス流パターンを制御するための処理チャンバ装置、システム、及び方法	2016年12月15日
特表 2016-539514	酸化物−ケイ素スタックのための付着性の改善	2016年12月15日
特開 2016-211075	改善されたガス流のためのシャワーヘッド支持構造	2016年12月15日
特開 2016-213482	スペクトルの等高線図のピーク位置と時間の関係を使用する終点方法	2016年12月15日
特表 2016-538140	局所領域流量制御を備える研磨システム	2016年12月 8日
特表 2016-538427	ガス供給を制御するための方法及びコントローラ	2016年12月 8日
特表 2016-538728	基板研磨中の研磨速度の制限的調整	2016年12月 8日
特表 2016-537298	希土類酸化物系モノリシックチャンバ材料	2016年12月 1日
特表 2016-537501	ナノメートルスケールの特徴を直接形成する方法及び装置	2016年12月 1日
特表 2016-537504	真空堆積装置のためのローラデバイス、ローラを有する真空堆積装置、及びローラを操作するための方法	2016年12月 1日
特表 2016-537506	半導体製造コンポーネント用高純度金属トップコート	2016年12月 1日
特表 2016-537805	基板処理のための混合プラットフォームの装置、システム、及び方法	2016年12月 1日
特表 2016-537824	窒化ケイ素の選択的なエッチング	2016年12月 1日
特表 2016-536151	研磨材を中に有する印刷された化学機械研磨パッド	2016年11月24日

217 件中 16-30 件を表示

※ をクリックすると公報番号が選択状態になります。クリップボードにコピーする際にお使いください。

このページの公報番号をまとめてクリップボードにコピー

2016-539506 2016-539507 2016-539514 2016-211075 2016-213482 2016-538140 2016-538427 2016-538728 2016-537298 2016-537501 2016-537504 2016-537506 2016-537805 2016-537824 2016-536151

※ ログインすれば出願人をリストに登録できます。アプライド　マテリアルズ　インコーポレイテッドの知財の動向チェックに便利です。

ログインについて

ランキング一覧に戻る

特許ランキング

2025年特許出願件数	2025年特許取得件数
2024年特許出願件数	2024年特許取得件数
2023年特許出願件数	2023年特許取得件数
2022年特許出願件数	2022年特許取得件数
2021年特許出願件数	2021年特許取得件数
2020年特許出願件数	2020年特許取得件数
2019年特許出願件数	2019年特許取得件数
2018年特許出願件数	2018年特許取得件数
2017年特許出願件数	2017年特許取得件数
2015年特許出願件数	2015年特許取得件数
2014年特許出願件数	2014年特許取得件数
2013年特許出願件数	2013年特許取得件数
2012年特許出願件数	2012年特許取得件数
2011年特許出願件数	2011年特許取得件数