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アプライド　マテリアルズ　インコーポレイテッド

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アプライド　マテリアルズ　インコーポレイテッドの商標一覧

公報番号	発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます)	公報発行日
特表 2016-536472	高周波（ＲＦ）スパッタ堆積源、堆積装置及びその組立て方法	2016年11月24日
特表 2016-536682	タッチパネル用の積層体及び積層体形成方法	2016年11月24日
特表 2016-536792	遠隔プラズマＣＶＤ技術を使用する低温窒化ケイ素フィルム	2016年11月24日
特表 2016-536797	冷却された真空閉じ込め容器を備えるホットウォールリアクタ	2016年11月24日
特表 2016-536801	ＰＥＣＶＤ微結晶シリコンゲルマニウム（ＳｉＧｅ）	2016年11月24日
特表 2016-536803	温度プロファイル制御装置を有する加熱基板支持体	2016年11月24日
特開 2016-197719	３Ｄ　ＮＡＮＤメモリデバイスにおける垂直エッチング性能の改善のための、膜のプラズマ化学気相堆積	2016年11月24日
特表 2016-535710	万能型部品リフト装置、アセンブリ、及び電子デバイス製造方法	2016年11月17日
特表 2016-535940	移送チャンバガスパージ装置、電子デバイス処理システム、及びパージ方法。	2016年11月17日
特開 2016-195104	プラズマスキュー制御のための遠隔プラズマ源	2016年11月17日
特表 2016-535299	ウェブベース処理用のマスクレスリソグラフィ	2016年11月10日
特表 2016-535300	アクティブアラインメントを用いたロールツーロールのマスクレスリソグラフィー	2016年11月10日
特表 2016-535410	高温低圧環境用の細長い容量結合プラズマ源	2016年11月10日
特表 2016-535430	炭素繊維リングサセプタ	2016年11月10日
特表 2016-534225	裏側冷却溝を備えるスパッタリングターゲット	2016年11月 4日

217 件中 31-45 件を表示

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2016-536472 2016-536682 2016-536792 2016-536797 2016-536801 2016-536803 2016-197719 2016-535710 2016-535940 2016-195104 2016-535299 2016-535300 2016-535410 2016-535430 2016-534225

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