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■ 2016年 出願公開件数ランキング 第200位 217件 (2015年:第263位 162件)
■ 2016年 特許取得件数ランキング 第268位 121件 (2015年:第236位 126件)
(ランキング更新日:2025年1月31日)筆頭出願人である出願のみカウントしています
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公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
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特表 2016-534299 | 半導体装置のためのシーリング溝の方法 | 2016年11月 4日 | |
特表 2016-534522 | 誘導結合プラズマ(ICP)リアクタの電力堆積制御 | 2016年11月 4日 | |
特表 2016-534556 | 局部的に加熱されるマルチゾーン式の基板支持体 | 2016年11月 4日 | |
特表 2016-534558 | 熱処理チャンバのための支持シリンダー | 2016年11月 4日 | |
特表 2016-533465 | 取外し可能な遮断弁遮蔽挿入物アセンブリ | 2016年10月27日 | |
特表 2016-533636 | 空気圧エンドエフェクタ装置、基板搬送システム、及び基板搬送方法 | 2016年10月27日 | |
特開 2016-185590 | 多数の光ヘッドからのスペクトルの収集 | 2016年10月27日 | |
特表 2016-533025 | ウエハの裏側及び表側からのウエハダイシング | 2016年10月20日 | |
特表 2016-533033 | 反射を削減する表面特徴部を含む基板支持体、及び基板支持体を製造するための製造技術 | 2016年10月20日 | |
特開 2016-184727 | チャンバー蓋ヒーターリングアセンブリ | 2016年10月20日 | |
特開 2016-184733 | エピタキシャル成長装置用のチャンバ構成要素 | 2016年10月20日 | |
特開 2016-184734 | エピタキシャル成長装置用のチャンバ構成要素 | 2016年10月20日 | |
特表 2016-532313 | 周期的エッチング工程を用いたエッチング停止層のエッチング方法 | 2016年10月13日 | |
特表 2016-532316 | 堆積保持力を増大させるための表面テクスチャリングのための形状寸法およびパターン | 2016年10月13日 | |
特開 2016-180987 | 照明システム | 2016年10月13日 |
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2016-534299 2016-534522 2016-534556 2016-534558 2016-533465 2016-533636 2016-185590 2016-533025 2016-533033 2016-184727 2016-184733 2016-184734 2016-532313 2016-532316 2016-180987
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2月4日(火) - 東京 港区
2月4日(火) - 神奈川 川崎市
2月4日(火) -
2月4日(火) -
2月5日(水) - 東京 港区
2月5日(水) -
2月5日(水) -
2月5日(水) -
2月6日(木) - 東京 港区
2月6日(木) -
2月7日(金) -
2月7日(金) - 東京 港区
2月7日(金) - 神奈川 横浜市
2月7日(金) -
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