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アプライド マテリアルズ インコーポレイテッド
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■ 2016年 出願公開件数ランキング 第194位 217件
（
2015年：第249位 162件）
■ 2016年 特許取得件数ランキング 第268位 121件
（
2015年：第235位 126件）
（ランキング更新日：2026年10月30日）筆頭出願人である出願のみカウントしています
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アプライド マテリアルズ インコーポレイテッドの商標一覧| 公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特許 6023134 | 除害システムの効率的な運転のための方法及び装置 | 2016年11月 9日 | |
| 特許 6019105 | 光学的終点検出システム | 2016年11月 2日 | |
| 特許 6017560 | チャンバ内の基板を感知するための方法および装置 | 2016年11月 2日 | |
| 特許 6017538 | 環境の影響の変動を伴う基準スペクトルの構築 | 2016年11月 2日 | |
| 特許 6013774 | 電気化学堆積の装置および方法 | 2016年10月25日 | |
| 特許 6009520 | シリコン含有膜の平滑ＳｉＣｏｎｉエッチング | 2016年10月19日 | |
| 特許 6009436 | 化学機械研磨における研磨速度補正のためのフィードバック | 2016年10月19日 | |
| 特許 6005697 | ＰＥＣＶＤ処理チャンバにおけるバッキングプレートの強化 | 2016年10月12日 | |
| 特許 6002672 | チャンバコンポーネントを接合するために使用される接着材料 | 2016年10月 5日 | |
| 特許 6000960 | 化学機械研磨消耗品のばらつきを補償する装置及び方法 | 2016年10月 5日 | |
| 特許 5993974 | 基板をコーティングするための方法およびコータ | 2016年 9月21日 | |
| 特許 5992334 | ウエハのエッジおよび斜面の堆積を修正するためのシャドウリング | 2016年 9月14日 | |
| 特許 5992513 | 酸化物表面でなくベアシリコンへのポリマー膜の選択的堆積 | 2016年 9月14日 | |
| 特許 5992521 | 集積回路内に金属ケイ素化合物領域を形成する方法 | 2016年 9月14日 | |
| 特許 5992519 | ＵＶ支援型の光化学堆積によるプラズマ損傷を受けた低誘電率膜の誘電体の復旧 | 2016年 9月14日 |
121 件中 16-30 件を表示
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6023134 6019105 6017560 6017538 6013774 6009520 6009436 6005697 6002672 6000960 5993974 5992334 5992513 5992521 5992519
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