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■ 2016年 出願公開件数ランキング 第200位 217件
(2015年:第263位 162件)
■ 2016年 特許取得件数ランキング 第268位 121件
(2015年:第236位 126件)
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公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
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特許 5896387 | 基板支持ブッシング | 2016年 3月30日 | |
特許 5897013 | 高アスペクト比特徴部に金属を堆積させる方法 | 2016年 3月30日 | |
特許 5893033 | デバイス歩留まり向上のための移送チャンバ計量 | 2016年 3月23日 | |
特許 5889791 | ソース・ドレイン金属エッチングのためのウェットプロセスを用いた金属酸化物又は金属酸窒化物TFTの製造方法 | 2016年 3月22日 | |
特許 5889806 | 複式噴射を伴う原子層堆積チャンバ | 2016年 3月22日 | |
特許 5889894 | 高アスペクト比の特徴要素に金属を堆積する方法 | 2016年 3月22日 | |
特許 5889959 | 酸化物形成方法 | 2016年 3月22日 | |
特許 5887282 | 高効率/高精度ヒータドライバ | 2016年 3月16日 | |
特許 5883652 | プラズマ処理チャンバのための高周波リターンデバイスおよびプラズマ処理システム | 2016年 3月15日 | |
特許 5885736 | ツインチャンバ処理システム | 2016年 3月15日 | |
特許 5881714 | 太陽電池デバイスを形成する方法 | 2016年 3月 9日 | |
特許 5882233 | 堆積プロセスのための方法および装置 | 2016年 3月 9日 | |
特許 5882364 | ウエハレベルのシンギュレーションのための方法 | 2016年 3月 9日 | |
特許 5877711 | 反応性プラズマ処理に耐性をもつ保護コーティング | 2016年 3月 8日 | |
特許 5877873 | プラズマプロセスを実行するシステムをチューニングするための方法 | 2016年 3月 8日 |
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5896387 5897013 5893033 5889791 5889806 5889894 5889959 5887282 5883652 5885736 5881714 5882233 5882364 5877711 5877873
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