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■ 2016年 出願公開件数ランキング 第200位 217件
(2015年:第263位 162件)
■ 2016年 特許取得件数ランキング 第268位 121件
(2015年:第236位 126件)
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公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
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特許 5963219 | 微小レンズアレイを使用してラインを生成する光学設計 | 2016年 8月 3日 | |
特許 5964244 | プラズマ処理装置のフィードフォワード温度制御方法および当該方法を実行させる命令をストアしたコンピュータ可読媒体、温度コントローラおよび当該コントローラを有するプラズマ処理装置 | 2016年 8月 3日 | |
特許 5964293 | 基板処理システムで使用するための窓アセンブリ | 2016年 8月 3日 | |
特許 5964411 | コーティングプロセスにおいてフレキシブル基板をパッシベーションするためのデバイスおよび方法 | 2016年 8月 3日 | |
特許 5960087 | スパッタリング及び再スパッタリングのための自己イオン化したプラズマ及び誘導結合したプラズマ | 2016年 8月 2日 | |
特許 5956154 | 排ガス削減の改善 | 2016年 7月27日 | |
特許 5956564 | フリップエッジシャドーフレーム | 2016年 7月27日 | |
特許 5954739 | 電子装置製造システムにおけるガスの現場分析のための方法及び装置 | 2016年 7月20日 | |
特許 5954795 | 半導体用途のための結晶化処理 | 2016年 7月20日 | |
特許 5955504 | 窒素ガスを用いた亜鉛ターゲットの反応性スパッタにより形成される薄膜半導体材料 | 2016年 7月20日 | |
特許 5943999 | モデルベースの制御を使用して基板を処理するための方法および装置 | 2016年 7月 5日 | |
特許 5945553 | 被覆装置および被覆方法 | 2016年 7月 5日 | |
特許 5940720 | 多数の光ヘッドからのスペクトルの収集 | 2016年 6月29日 | |
特許 5937591 | 改善されたガス流のためのシャワーヘッド支持構造 | 2016年 6月22日 | |
特許 5938140 | 高度なRF及び温度の均一性を備えた静電チャック | 2016年 6月22日 |
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5963219 5964244 5964293 5964411 5960087 5956154 5956564 5954739 5954795 5955504 5943999 5945553 5940720 5937591 5938140
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