特許ランキング - 出願人詳細情報 -

アプライド　マテリアルズ　インコーポレイテッド

※ ログインすれば出願人(アプライド　マテリアルズ　インコーポレイテッド)をリストに登録できます。ログインについて

　■　2016年出願公開件数ランキング　　　第200位　217件（2015年：第263位　162件）

　■　2016年特許取得件数ランキング　　　第268位　121件（2015年：第236位　126件）

（ランキング更新日：2025年6月25日）筆頭出願人である出願のみカウントしています

2011年 2012年 2013年 2014年 2015年 2017年 2018年 2019年 2020年 2021年 2022年 2023年 2024年 2025年

アプライド　マテリアルズ　インコーポレイテッドの商標一覧

公報番号	発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます)	公報発行日
特許 5963219	微小レンズアレイを使用してラインを生成する光学設計	2016年 8月 3日
特許 5964244	プラズマ処理装置のフィードフォワード温度制御方法および当該方法を実行させる命令をストアしたコンピュータ可読媒体、温度コントローラおよび当該コントローラを有するプラズマ処理装置	2016年 8月 3日
特許 5964293	基板処理システムで使用するための窓アセンブリ	2016年 8月 3日
特許 5964411	コーティングプロセスにおいてフレキシブル基板をパッシベーションするためのデバイスおよび方法	2016年 8月 3日
特許 5960087	スパッタリング及び再スパッタリングのための自己イオン化したプラズマ及び誘導結合したプラズマ	2016年 8月 2日
特許 5956154	排ガス削減の改善	2016年 7月27日
特許 5956564	フリップエッジシャドーフレーム	2016年 7月27日
特許 5954739	電子装置製造システムにおけるガスの現場分析のための方法及び装置	2016年 7月20日
特許 5954795	半導体用途のための結晶化処理	2016年 7月20日
特許 5955504	窒素ガスを用いた亜鉛ターゲットの反応性スパッタにより形成される薄膜半導体材料	2016年 7月20日
特許 5943999	モデルベースの制御を使用して基板を処理するための方法および装置	2016年 7月 5日
特許 5945553	被覆装置および被覆方法	2016年 7月 5日
特許 5940720	多数の光ヘッドからのスペクトルの収集	2016年 6月29日
特許 5937591	改善されたガス流のためのシャワーヘッド支持構造	2016年 6月22日
特許 5938140	高度なＲＦ及び温度の均一性を備えた静電チャック	2016年 6月22日

121 件中 46-60 件を表示

※ をクリックすると公報番号が選択状態になります。クリップボードにコピーする際にお使いください。

このページの公報番号をまとめてクリップボードにコピー

5963219 5964244 5964293 5964411 5960087 5956154 5956564 5954739 5954795 5955504 5943999 5945553 5940720 5937591 5938140

※ ログインすれば出願人をリストに登録できます。アプライド　マテリアルズ　インコーポレイテッドの知財の動向チェックに便利です。

ログインについて

ランキング一覧に戻る

特許ランキング

2025年特許出願件数	2025年特許取得件数
2024年特許出願件数	2024年特許取得件数
2023年特許出願件数	2023年特許取得件数
2022年特許出願件数	2022年特許取得件数
2021年特許出願件数	2021年特許取得件数
2020年特許出願件数	2020年特許取得件数
2019年特許出願件数	2019年特許取得件数
2018年特許出願件数	2018年特許取得件数
2017年特許出願件数	2017年特許取得件数
2015年特許出願件数	2015年特許取得件数
2014年特許出願件数	2014年特許取得件数
2013年特許出願件数	2013年特許取得件数
2012年特許出願件数	2012年特許取得件数
2011年特許出願件数	2011年特許取得件数