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アプライド マテリアルズ インコーポレイテッド

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  2016年 出願公開件数ランキング    第200位 217件 上昇2015年:第263位 162件)

  2016年 特許取得件数ランキング    第268位 121件 下降2015年:第236位 126件)

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公報番号発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます)公報発行日備考
特許 5963219 微小レンズアレイを使用してラインを生成する光学設計 2016年 8月 3日
特許 5964244 プラズマ処理装置のフィードフォワード温度制御方法および当該方法を実行させる命令をストアしたコンピュータ可読媒体、温度コントローラおよび当該コントローラを有するプラズマ処理装置 2016年 8月 3日
特許 5964293 基板処理システムで使用するための窓アセンブリ 2016年 8月 3日
特許 5964411 コーティングプロセスにおいてフレキシブル基板をパッシベーションするためのデバイスおよび方法 2016年 8月 3日
特許 5960087 スパッタリング及び再スパッタリングのための自己イオン化したプラズマ及び誘導結合したプラズマ 2016年 8月 2日
特許 5956154 排ガス削減の改善 2016年 7月27日
特許 5956564 フリップエッジシャドーフレーム 2016年 7月27日
特許 5954739 電子装置製造システムにおけるガスの現場分析のための方法及び装置 2016年 7月20日
特許 5954795 半導体用途のための結晶化処理 2016年 7月20日
特許 5955504 窒素ガスを用いた亜鉛ターゲットの反応性スパッタにより形成される薄膜半導体材料 2016年 7月20日
特許 5943999 モデルベースの制御を使用して基板を処理するための方法および装置 2016年 7月 5日
特許 5945553 被覆装置および被覆方法 2016年 7月 5日
特許 5940720 多数の光ヘッドからのスペクトルの収集 2016年 6月29日
特許 5937591 改善されたガス流のためのシャワーヘッド支持構造 2016年 6月22日
特許 5938140 高度なRF及び温度の均一性を備えた静電チャック 2016年 6月22日

121 件中 46-60 件を表示

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5963219 5964244 5964293 5964411 5960087 5956154 5956564 5954739 5954795 5955504 5943999 5945553 5940720 5937591 5938140

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