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■ 2016年 出願公開件数ランキング 第200位 217件
(2015年:第263位 162件)
■ 2016年 特許取得件数ランキング 第268位 121件
(2015年:第236位 126件)
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公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
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特許 5988317 | 振幅変調された高周波エネルギーを使用してゲート誘電体をプラズマ窒化するための方法及び装置 | 2016年 9月 7日 | |
特許 5989608 | フォトマスクプラズマエッチングの為の方法および装置 | 2016年 9月 7日 | |
特許 5989682 | 原子層堆積のための装置及びプロセス | 2016年 9月 7日 | |
特許 5985512 | 多数の光ヘッドからのスペクトルの収集 | 2016年 9月 6日 | |
特許 5985554 | カセットを位置合わせするための方法と装置 | 2016年 9月 6日 | |
特許 5986591 | コンタクト洗浄のための方法 | 2016年 9月 6日 | |
特許 5986988 | 基板処理システムの流量制御装置を較正する方法及び装置 | 2016年 9月 6日 | |
特許 5980843 | 渦電流監視システムと光学監視システムとを有する研磨制御方法及び装置 | 2016年 8月31日 | |
特許 5976776 | UV処理、化学処理、および堆積のための装置および方法 | 2016年 8月24日 | |
特許 5978206 | タッチパネルで使用される透明体を製造するための方法およびシステム | 2016年 8月24日 | |
特許 5978236 | イットリウム含有保護皮膜による半導体処理装置の被覆方法 | 2016年 8月24日 | |
特許 5972885 | ホットワイヤ化学気相堆積プロセスにおけるタンタルフィラメントの寿命を向上させるための方法 | 2016年 8月17日 | |
特許 5965955 | 原子層堆積装置 | 2016年 8月10日 | |
特許 5968783 | スペクトルの等高線図のピーク位置と時間の関係を使用する終点方法 | 2016年 8月10日 | |
特許 5963218 | 薄いガラス基板用のキャリアおよびその使用方法 | 2016年 8月 3日 |
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5988317 5989608 5989682 5985512 5985554 5986591 5986988 5980843 5976776 5978206 5978236 5972885 5965955 5968783 5963218
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