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■ 2016年 出願公開件数ランキング 第200位 217件 (2015年:第263位 162件)
■ 2016年 特許取得件数ランキング 第268位 121件 (2015年:第236位 126件)
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公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
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特許 5916617 | ブラシコンディショニングおよびパッドコンディショニングのための装置および方法 | 2016年 5月11日 | |
特許 5911491 | 高放射率表面を有するガス分配シャワーヘッド | 2016年 4月27日 | |
特許 5911958 | 長方形基板に層を堆積させるためのマスク構造体、装置および方法 | 2016年 4月27日 | |
特許 5912140 | 多レベルシャワーヘッド設計 | 2016年 4月27日 | |
特許 5907652 | プラズマ処理装置 | 2016年 4月26日 | |
特許 5907971 | スパッタされた材料の層を形成するシステムおよび方法 | 2016年 4月26日 | |
特許 5908403 | クロスフローを有するエピタキシャルチャンバ | 2016年 4月26日 | |
特許 5909484 | 短寿命種のためのプラズマ源を組み込んだプロセスチャンバ蓋の設計 | 2016年 4月26日 | |
特許 5905476 | NANOCUREUVチャンバ用の石英シャワーヘッド | 2016年 4月20日 | |
特許 5906249 | プラズマ処理装置 | 2016年 4月20日 | |
特許 5902085 | 処理チャンバ内で基板を位置決めするための装置及び処理チャンバ内で基板をセンタリングするための方法 | 2016年 4月13日 | |
特許 5903155 | 熱ワイヤを使用して被覆を行うための装置および方法 | 2016年 4月13日 | |
特許 5903429 | 縦型インラインCVDシステム | 2016年 4月13日 | |
特許 5898955 | プロセスキットリングへの制御されたRF電力配分を有するプラズマリアクタ用ワークピースサポート | 2016年 4月 6日 | |
特許 5894622 | シリコン含有ハードマスクをエッチングする方法 | 2016年 3月30日 |
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5916617 5911491 5911958 5912140 5907652 5907971 5908403 5909484 5905476 5906249 5902085 5903155 5903429 5898955 5894622
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12月1日(日) -
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