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■ 2016年 出願公開件数ランキング 第200位 217件
(2015年:第263位 162件)
■ 2016年 特許取得件数ランキング 第268位 121件
(2015年:第236位 126件)
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公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
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特許 5933694 | ホウ素炭素膜をドライストリッピングする方法 | 2016年 6月15日 | |
特許 5934208 | 抵抗率と不均一性が減少された薄膜を形成する物理蒸着処理のためのマグネット | 2016年 6月15日 | |
特許 5934788 | レーザによる基板のダイシング及びプラズマエッチング用の多層マスク | 2016年 6月15日 | |
特許 5931039 | 基板に形成された熱処理構造用の方法および装置 | 2016年 6月 8日 | |
特許 5931055 | 基板を処理する装置及び当該装置に含まれるプロセスキットシールド | 2016年 6月 8日 | |
特許 5931741 | シリコン含有膜の平滑SiConiエッチング | 2016年 6月 8日 | |
特許 5932867 | 基板をコーティングするための装置 | 2016年 6月 8日 | |
特許 5933447 | 基板処理シャワーヘッド用の再構成可能なマルチゾーンガス供給ハードウェア | 2016年 6月 8日 | |
特許 5924739 | 内側保定リングおよび外側保定リング | 2016年 5月25日 | |
特許 5925802 | 2段階での均一なドライエッチング | 2016年 5月25日 | |
特許 5926448 | UV反応性接着フィルムを用いたレーザ・プラズマエッチングウェハダイシング | 2016年 5月25日 | |
特許 5921448 | 周期的な酸化およびエッチングのための装置と方法 | 2016年 5月24日 | |
特許 5922041 | 周期的な酸化およびエッチングのための装置と方法 | 2016年 5月24日 | |
特許 5917607 | 薄膜均一性を制御する方法およびそれにより生産された製品 | 2016年 5月18日 | |
特許 5916384 | ウェハ処理堆積物遮蔽構成材 | 2016年 5月11日 |
121 件中 61-75 件を表示
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5933694 5934208 5934788 5931039 5931055 5931741 5932867 5933447 5924739 5925802 5926448 5921448 5922041 5917607 5916384
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ビジネスの実務で役立つ技術契約の基礎知識と実例 ~秘密保持契約、共同研究開発、共同出願契約、製造委託契約、特許ライセンス契約~
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日常実務の疑問点に答える著作権(周辺領域の商標・不正競争防止法を含む)に関するQ&A~日常業務において、判断に迷う・知らずして間違いを犯しがちなケースを取り上げて、Q&A形式で平易に解説~
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