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アプライド マテリアルズ インコーポレイテッド
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■ 2021年 出願公開件数ランキング 第132位 313件
（
2020年：第138位 311件）
■ 2021年 特許取得件数ランキング 第117位 241件
（2020年：第136位 210件）
（ランキング更新日：2024年11月29日）筆頭出願人である出願のみカウントしています
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アプライド マテリアルズ インコーポレイテッドの商標一覧| 公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特許 6965391 | ガス流量比制御のための方法及びアセンブリ | 2021年11月10日 | |
| 特許 6966181 | 半導体処理システムにおける外部基板回転 | 2021年11月10日 | |
| 特許 6959863 | 基板処理チャンバで使用するためのコリメータ | 2021年11月 5日 | |
| 特許 6962955 | シームレスのコバルト間隙充填を可能にする方法 | 2021年11月 5日 | |
| 特許 6956212 | 半導体処理チャンバコンポーネント用の保護コーティングの原子層堆積 | 2021年11月 2日 | |
| 特許 6956710 | 化学機械研磨キャリアヘッド用の外部クランプリング | 2021年11月 2日 | |
| 特許 6956774 | 希土類酸化物のイオンアシスト蒸着トップコート | 2021年11月 2日 | |
| 特許 6956777 | 区分的位置合わせモデリング方法 | 2021年11月 2日 | |
| 特許 6957576 | ロードロックチャンバ、ロードロックチャンバを有する真空処理システム及びロードロックチャンバを排気する方法 | 2021年11月 2日 | |
| 特許 6957667 | 基板処理のための混合プラットフォームの装置、システム、及び方法 | 2021年11月 2日 | |
| 特許 6959362 | 高圧処理によるタングステンの脱フッ素化 | 2021年11月 2日 | |
| 特許 6959413 | フォトレジスト層におけるフィールド誘導型酸プロファイル制御のための装置 | 2021年11月 2日 | |
| 特許 6959440 | より良好なバイオセンサ性能のための自然酸化物除去及び誘電体酸化物の再成長の方法、材料及びプロセス | 2021年11月 2日 | |
| 特許 6953133 | 容量結合型プラズマ処理装置のエッジリングのＲＦ振幅の制御 | 2021年10月27日 | |
| 特許 6953562 | 研磨材を中に有する印刷された化学機械研磨パッド | 2021年10月27日 |
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6965391 6966181 6959863 6962955 6956212 6956710 6956774 6956777 6957576 6957667 6959362 6959413 6959440 6953133 6953562
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